首页
›
光子技术_硅光与光通信工程
›
005-硅光制造与异质集成光子工程
›
《光子芯片键合与晶圆级集成工程》
VIP16
本课程属于:005-硅光制造与异质集成光子工程
光子技术_硅光与光通信工程 · 共 16 门相关课程,组合学习更完整。
查看所属VIP全部课程 →
← 返回所属目录
咨询 / 购买
📘
光子芯片键合与晶圆级集成工程
共计 30 章节
可可资料掘金营 · 点击在线试看
01
光子芯片键合与晶圆级集成导论
目标=技术范畴 · 核心挑战 · 典型应用场景与课程任务地图
光子芯片键合
晶圆级集成导论
02
键合与集成中的光子芯片材料体系
目标=硅 · 磷化铟 · 铌酸锂
键合
集成
03
晶圆级集成工艺流程总览
目标=从晶圆准备 · 表面处理 · 对准
晶圆级集成工艺流…
目标=从晶圆准备
04
晶圆表面清洗与活化工艺
目标=等离子活化 · 湿法清洗 · 化学机械抛光对键合界面的影响与实操要…
晶圆表面清洗
活化工艺
05
直接键合原理与工艺窗口
目标=硅-硅 · 硅-二氧化硅直接键合机制 · 退火条件与界面能调控
直接键合原理
工艺窗口
06
阳极键合与玻璃-硅集成
目标=原理 · 工艺参数 · 适用场景及在光子封装中的典型任务
阳极键合
玻璃
07
金属热压键合与共晶键合
目标=金-金 · 铜-铜 · 金-锡等键合材料选择
金属热压键合
共晶键合
08
聚合物与粘合剂键合
目标=BCB · SU-8 · 紫外固化胶在光子芯片集成中的工艺与光…
聚合物
粘合剂键合
09
异质集成中的晶圆键合
目标=III-V-on-Si · 铌酸锂-on-绝缘体等异质材料键合的…
异质集成
晶圆键合
10
晶圆级对准与套刻精度
目标=对准标记设计 · 光学对准系统 · 误差来源与精度提升方法
晶圆级对准
套刻精度
11
键合界面表征技术
目标=扫描声学显微镜 · 红外成像 · X射线衍射
键合界面表征技术
目标=扫描声学显…
12
键合强度与可靠性测试
目标=拉伸 · 剪切 · 裂纹扩展
键合强度
可靠性测试
13
光子芯片键合中的热应力管理
目标=热膨胀系数失配 · 应力仿真 · 退火策略与结构补偿设计
光子芯片键合
热应力管理
14
晶圆级集成中的光学损耗控制
目标=界面散射 · 吸收 · 模式失配的成因与工艺优化案例
晶圆级集成
光学损耗控制
15
硅光芯片与激光器的异质集成
目标=键合方案对比 · 对准容差 · 散热设计与实际器件案例
硅光芯片
激光器的异质集成
16
薄膜铌酸锂与硅光子的晶圆级键合
目标=键合界面要求 · 极化处理 · 电极集成与调制器制作
薄膜铌酸锂
硅光子的晶圆级键…
17
光子芯片与电子芯片的晶圆级异质集成
目标=TSV · 微凸点 · 混合键合在光电共封装中的任务
光子芯片
电子芯片的晶圆级…
18
晶圆级键合设备与自动化
目标=键合机类型 · 对准模块 · 压力与温度控制
晶圆级键合设备
自动化
19
键合工艺中的缺陷控制与良率提升
目标=空洞 · 颗粒 · 裂纹
键合工艺
缺陷控制
20
晶圆级集成中的临时键合与解键合
目标=载片选择 · 释放层工艺 · 薄晶圆处理与后续工艺兼容性
晶圆级集成
临时键合
21
光子芯片键合后的后处理工艺
目标=减薄 · 抛光 · 刻蚀
光子芯片键合后的…
目标=减薄
22
晶圆级集成中的测试与筛选
目标=在线检测 · 键合后电学与光学测试 · 已知良好芯片策略
晶圆级集成
测试
23
光子芯片键合与集成的封装协同设计
目标=热管理 · 光耦合 · 电互连与机械支撑的一体化任务
光子芯片键合
集成的封装协同设…
24
面向量产的光子晶圆级集成工艺整合
目标=工艺设计套件 · 设计规则 · 统计过程控制与成本分析
面向量产的光子晶…
目标=工艺设计套…
25
典型光子集成模块的键合实战
目标=硅光收发模块 · 激光雷达芯片 · 光互连引擎的键合流程拆解
典型光子集成模块…
目标=硅光收发模…
26
异质集成中的材料兼容性与热预算
目标=工艺温度限制 · 扩散 · 污染与界面反应的控制策略
异质集成
材料兼容性
27
晶圆级键合中的洁净度与污染控制
目标=洁净室等级 · 颗粒监控 · 有机残留与金属污染的影响
晶圆级键合
洁净度
28
光子芯片键合中的光学对准与主动对准
目标=主动对准算法 · 反馈机制 · 吞吐量与精度权衡
光子芯片键合
光学对准
29
晶圆级集成工程中的失效分析与案例研究
目标=真实失效模式 · 根因分析 · 纠正措施与经验总结
晶圆级集成工程
失效分析
30
光子芯片键合与晶圆级集成的未来趋势与工程挑战
目标=新材料 · 新工艺 · 三维集成与大规模制造
光子芯片键合
晶圆级集成的未来…
所属VIP或分类
同VIP:III-V光电子器件与硅光平台集成
同VIP:PIC与EIC三维异质集成工程
同VIP:光子中介层与光电互连工程