4. PTAT与CTAT电压生成原理

带隙基准的核心思想,是把两个温度系数相反的电压按一定权重相加,使一阶温度项相互抵消。这两个电压就是PTAT电压与CTAT电压:前者正比于绝对温度,后者随温度升高而下降。理解它们的产生机理,是后续推导补偿公式、确定电阻比和在Virtuoso中搭建验证电路的前提。

一、ΔVBE的PTAT特性

双极型晶体管在正向有源区工作时,集电极电流与基射电压满足指数关系。若两个晶体管工作在不同的电流密度下,它们的VBE之差就与绝对温度成正比。设两个同型晶体管Q1、Q2,集电极电流分别为IC1、IC2,饱和电流为IS1、IS2,则:

VBE1 = VT · ln(IC1 / IS1)
VBE2 = VT · ln(IC2 / IS2)
ΔVBE = VBE1 − VBE2 = VT · ln( (IC1·IS2) / (IC2·IS1) )

其中VT=kT/q为热电压,室温下约26mV。若Q1与Q2为同工艺同尺寸器件,IS1=IS2,则ΔVBE简化为VT·ln(IC1/IC2)。当电流比固定时,ln项为常数,ΔVBE只随VT线性变化,即ΔVBE=(k·lnN/q)·T,温度系数约为+0.087mV/℃(N=8时约+0.18mV/℃)。这就是PTAT电压的来源。

工程上更常用的做法是让Q1、Q2流过相同电流,但发射极面积比为1:N。此时IS正比于面积,ΔVBE=VT·ln(N)。面积比N由版图并联个数决定,比电流比更容易精确控制,因此实际带隙电路中普遍采用面积比方案。N通常取8或24,既保证ΔVBE足够大(约54mV或82mV),又不会因面积过大浪费版图。

二、VBE的CTAT特性

单个晶体管的VBE本身具有负温度系数。由VBE=VT·ln(IC/IS)出发,对温度求导可得:

dVBE/dT = (VBE − Vg0 − m·VT) / T

其中Vg0为硅的带隙电压外推值(约1.205V),m为与工艺相关的常数(约3~4)。在室温、VBE≈0.7V时,dVBE/dT约为−1.5~−2.0mV/℃。也就是说,温度每升高1℃,VBE下降约1.8mV。这个负温度系数就是CTAT电压的来源,它直接取自二极管连接晶体管的基射结,无需额外电路。

需要注意,VBE的CTAT并非严格线性,其曲率项(bandgap curvature)是二阶效应,一阶补偿无法消除,这正是高阶曲率补偿电路存在的原因。本节只讨论一阶补偿。

三、一阶温度补偿公式推导

把PTAT电压放大K倍后与CTAT电压相加,得到基准输出电压:

VREF = VBE + K · ΔVBE
     = VBE + K · VT · ln(N)

对温度求导并令其为零,即实现一阶零温度系数:

dVREF/dT = dVBE/dT + K · (k/q) · ln(N) = 0
K = − (dVBE/dT) / [ (k/q)·ln(N) ]

代入典型值:dVBE/dT≈−1.8mV/℃,(k/q)·ln8≈0.179mV/℃,得K≈10。此时VREF≈0.7V+10×0.054V≈1.24V,接近硅带隙电压1.205V,这正是"带隙基准"名称的由来。K由电阻比实现:若PTAT电流为ΔVBE/R1,经电流镜镜像后流过R2,则K=R2/R1。因此设计任务转化为确定N、R1、R2三个量。

一阶补偿只在某一温度点(通常取27℃)使dVREF/dT=0,其余温度仍有残余漂移,典型值约20~50ppm/℃。若需更低漂移,需引入曲率补偿。

四、在Virtuoso中搭建验证电路

验证目标是观察ΔVBE、VBE、VREF三条曲线随温度的变化,确认PTAT斜率、CTAT斜率及补偿后零温度点。建议按以下流程操作。

第一步,建立测试原理图。在Cadence Virtuoso Schematic Editor中新建cell view,放置两个pnp管(如analogLib中的pnp或工艺库中的纵向PNP),Q1发射极面积设为1,Q2设为8。用理想电流源给两管注入相同电流(如10μA),或用电流镜实现。Q1、Q2的基极与集电极接地,发射极分别接电流源。

第二步,接入运算放大器构成反馈。将Q1、Q2发射极电压送入理想运放(vcvs或opamp理想模型)的两个输入端,运放输出驱动电流镜栅极,使两路电流相等。运放输入端虚短,保证两发射极电压差即为ΔVBE,该差值落在电阻R1上,形成PTAT电流IPTAT=ΔVBE/R1。

第三步,用电流镜把PTAT电流镜像到输出支路,流过电阻R2,输出VREF=VBE+ (R2/R1)·ΔVBE。取R1=5.4kΩ、R2=54kΩ,则K≈10。VBE取Q1的发射极电压。

第四步,设置DC温度扫描。在ADE L中选dc分析,勾选Temperature Sweep,范围−40℃~125℃,步长5℃。把ΔVBE、VBE、VREF三条节点电压加入输出。运行仿真后,用WaveScan查看曲线。

第五步,判读结果。ΔVBE应呈上升直线,斜率约+0.18mV/℃;VBE应呈下降直线,斜率约−1.8mV/℃;VREF应近似水平,在27℃附近斜率为零,两端略有下弯。若VREF在27℃处斜率为正,说明K偏大,应减小R2;若为负,则增大R2。反复微调R2,直到VREF曲线在目标温度点切线水平。

下表给出示例参数与预期结果,供搭建时对照。这些数值为教学示例,实际应以所用工艺模型为准。

参数取值说明
Q2/Q1面积比N8版图并联8个单位管
偏置电流10μA两路相同
R15.4kΩ决定PTAT电流
R254kΩK≈10
ΔVBE(27℃)≈54mVVT·ln8
VBE(27℃)≈0.70V随工艺变化
VREF(27℃)≈1.24V接近带隙电压
PTAT / CTAT 电压生成与一阶补偿验证电路 PMOS 电流镜 镜像 I_PTAT 两路电流相等 Amp 虚短 Q1 面积 1 Q2 面积 8 R1 ΔVBE/R1 V(Q1)=V(Q2) 反馈控制栅压 输出镜像支路 I = ΔVBE/R1 流过 R2 R2 K = R2/R1 VREF = VBE + K·ΔVBE ΔVBE = VT·ln(N) → PTAT,斜率 ≈ +0.18 mV/℃ VBE → CTAT,斜率 ≈ −1.8 mV/℃ VREF = VBE + (R2/R1)·VT·ln(N),令 dVREF/dT = 0 得 K ≈ 10 温度扫描 ΔVBE VBE VREF −40℃ ~ 125℃