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《3D集成工艺寄生电容分析与先进CMOS工艺优化》
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3D集成工艺寄生电容分析与先进CMOS工艺优化
共计 30 章节
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01
3D IC技术概论
3D IC的发展历程 · 技术优势(性能 · 功耗
IC
3D
02
先进CMOS工艺节点概述
从平面MOSFET到FinFET · GAA-FET的演进 · 关键工艺参数(栅长
CMOS
先进
03
寄生电容基础
电容的物理本质 · 平行板电容模型 · 边缘电容
寄生电容基础
电容的物理本质
04
3D集成中的关键互连结构
TSV(硅通孔) · 微凸点(Micro-bump) · RDL(再分布层)
3D集成
关键互连结构
05
TSV寄生电容建模
TSV结构解析 · 氧化物衬垫层的影响 · 耗尽层电容
TSV
寄生电容建模
06
微凸点与RDL寄生电容
微凸点几何尺寸对电容的影响 · RDL线间耦合电容 · 衬底耦合效应
RDL
微凸点
07
混合键合界面电容
Cu-Cu直接键合 · SiO2介质键合 · 界面态对电容的影响
混合键合界面电容
Cu-Cu
08
层间介质(ILD)与层间电容
低k介质材料(SiCOH · 多孔SiO2) · k值对RC延迟的影响
ILD
层间介质
09
互连RC延迟模型
Elmore延迟模型 · 分布式RC模型 · 3D互连路径的延迟分析
RC
互连
10
串扰与噪声分析
容性串扰机制 · Miller效应 · 3D堆叠中的串扰抑制技术(屏蔽
串扰
噪声分析
11
功耗分析
动态功耗公式(P=αCV²f) · 寄生电容对动态功耗的贡献 · 3D IC的功耗优势与挑战
功耗分析
CV
12
寄生电容提取方法
解析公式法 · 查表法 · 场求解器(FEM
寄生电容提取方法
解析公式法
13
工艺波动性对寄生电容的影响
关键尺寸(CD)波动 · 薄膜厚度波动 · 边缘粗糙度(LER)的影响
工艺波动性对寄生…
CD
14
温度效应对寄生电容的影响
温度对介电常数的影响 · 热膨胀引起的几何变化 · 热载流子效应
温度效应对寄生电…
温度对介电常数的…
15
先进CMOS工艺中的栅极寄生电容
栅极重叠电容 · 栅极边缘电容 · FinFET/GAA-FET的多栅电…
CMOS
先进
16
源漏寄生电容
源漏扩展区电容 · 接触孔电容 · 浅槽隔离(STI)电容
源漏寄生电容
源漏扩展区电容
17
接触与通孔寄生电容
钨接触 · 铜通孔 · 接触电阻与电容的权衡
接触
通孔寄生电容
18
3D IC热管理
热阻网络模型 · 热-电耦合分析 · 热应力对寄生参数的影响
IC
3D
19
衬底耦合与噪声隔离
衬底电阻率的影响 · 保护环(Guard Ring) · 深N阱隔离
衬底耦合
噪声隔离
20
ESD保护电路中的寄生电容
ESD器件(GGNMOS · SCR)的寄生电容 · 对高速信号的影响
ESD
保护电路
21
射频(RF)与毫米波3D IC
高频寄生效应 · 电感Q值退化 · 传输线损耗
RF
IC
22
工艺优化
低k材料选择与集成 · CMP平坦化对电容均匀性的影响 · 应力工程
工艺优化
低k材料选择
23
设计-工艺协同优化(DTCO)
标准单元库优化 · 布线资源优化 · 3D布局规划
DTCO
设计
24
机器学习在寄生电容建模中的应用
神经网络代理模型 · 快速预测 · 工艺角分析
机器学习
寄生电容建模
25
3D IC测试与良率
测试结构设计(菊花链 · 环形振荡器) · 寄生电容测试方法(CV测量)
IC
3D
26
先进封装技术
FOWLP(扇出型晶圆级封装) · 5D中介层 · 3D NAND堆叠
先进封装技术
FOWLP
27
异构集成
不同工艺节点(逻辑 · 存储 · 模拟)的集成
异构集成
不同工艺节点
28
案例研究
高性能计算(HPC)3D IC · 移动应用处理器3D IC · 图像传感器3D IC
案例研究
HPC
29
未来趋势
背面供电网络(BSPDN) · CFET(互补FET) · 光互连
未来趋势
BSPDN
30
课程总结与展望
关键知识点回顾 · 行业挑战 · 未来研究方向
课程总结
关键知识点回顾
所属VIP或分类
同VIP:3D集成工艺中ESD防护结构设计与应力技术优化
同VIP:3D集成工艺中HKMG对ESD防护结构的可靠性评估
同VIP:3D集成工艺中应力技术对迁移率增强的故障排查实践