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硅光薄膜沉积与材料工程

共计 30 章节
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01
硅光薄膜沉积技术导论
目标=硅光子学对薄膜材料的需求 · 沉积技术分类 · 课程知识地图与工程目标
硅光薄膜沉积技术…目标=硅光子学对…
02
硅光薄膜材料体系与光学功能
目标=Si · SiO2 · Si3N4
硅光薄膜材料体系光学功能
03
薄膜沉积真空基础与等离子体物理
目标=真空获得与测量 · 气体动力学 · 等离子体产生与维持
薄膜沉积真空基础等离子体物理
04
热氧化与化学氧化制备硅基薄膜
目标=干氧/湿氧氧化动力学 · Deal-Grove模型 · 界面态控制与氧化层厚度均匀性优化
热氧化化学氧化制备硅基…
05
低压化学气相沉积（LPCVD）硅基薄膜
目标=多晶硅 · 氮化硅 · 氧化硅的LPCVD工艺窗口
LPCVD低压化学气相沉积
06
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）硅光薄膜
目标=射频/甚高频放电 · SiH4/NH3/N2O反应体系 · 低温沉积与氢含量调控
PECVD等离子体增强化学…
07
电感耦合等离子体CVD与高密度等离子体沉积
目标=ICP-CVD原理 · 高密度等离子体优势 · 低损伤沉积与致密性提升策略
CVD电感耦合等离子体
08
原子层沉积（ALD）在硅光中的应用
目标=自限制表面反应 · Al2O3/HfO2/TiO2等薄膜 · 高保形覆盖与界面钝化工程
ALD原子层沉积
09
物理气相沉积（PVD）与溅射技术
目标=磁控溅射 · 反应溅射 · 离子束沉积制备硅基与金属薄膜的工艺与…
PVD物理气相沉积
10
硅光薄膜的掺杂与电光调控
目标=原位掺杂 · 离子注入后退火 · 掺杂浓度对折射率与损耗的影响及调制器…
硅光薄膜的掺杂电光调控
11
硅光薄膜的结晶化与相变控制
目标=非晶/多晶/单晶硅薄膜的制备 · 激光退火 · 金属诱导结晶与晶粒尺寸调控
硅光薄膜的结晶化相变控制
12
硅光薄膜的应力工程
目标=本征应力与热应力来源 · 应力对光学性能与器件可靠性的影响 · 应力补偿与调控方法
硅光薄膜的应力工…目标=本征应力
13
硅光薄膜的界面工程
目标=硅/氧化物 · 硅/氮化物界面态 · 界面钝化
硅光薄膜的界面工…目标=硅
14
硅光薄膜的光学损耗机制与测量
目标=散射损耗 · 吸收损耗 · 界面损耗
硅光薄膜的光学损…测量
15
硅光薄膜的折射率与厚度表征
目标=椭偏仪 · 棱镜耦合 · 光谱反射
硅光薄膜的折射率厚度表征
16
硅光薄膜的成分与结构分析
目标=XPS · SIMS · RBS
硅光薄膜的成分结构分析
17
硅光薄膜的电学与光电性能测试
目标=C-V · I-V · 霍尔效应
硅光薄膜的电学光电性能测试
18
硅光波导薄膜的沉积与集成工艺
目标=波导芯层/包层沉积 · 刻蚀选择比 · 侧壁粗糙度控制与多材料集成方案
硅光波导薄膜的沉…集成工艺
19
硅光调制器薄膜沉积与材料工程
目标=PN结 · MOS电容 · 电光聚合物与薄膜铌酸锂集成中的沉积挑…
硅光调制器薄膜沉…材料工程
20
硅光探测器薄膜沉积与材料工程
目标=Ge · GeSn · III-V/Si异质外延
硅光探测器薄膜沉…材料工程
21
硅光光源薄膜沉积与材料工程
目标=III-V/Si键合 · 量子点激光 · 稀土掺杂与硅基发光薄膜的沉积与退火工…
硅光光源薄膜沉积材料工程
22
硅光薄膜的图形化与选择性沉积
目标=光刻 · 刻蚀 · 剥离
硅光薄膜的图形化选择性沉积
23
硅光薄膜的退火与后处理
目标=快速热退火 · 炉退火 · 激光退火
硅光薄膜的退火后处理
24
硅光薄膜的缺陷控制与良率提升
目标=颗粒 · 针孔 · 裂纹
硅光薄膜的缺陷控…良率提升
25
硅光薄膜的可靠性与失效分析
目标=热稳定性 · 湿度 · 辐照
硅光薄膜的可靠性失效分析
26
硅光薄膜沉积的设备与工艺集成
目标=PECVD/ALD/溅射集群系… · 原位监测 · 工艺转移与量产均匀性控制
硅光薄膜沉积的设…工艺集成
27
硅光薄膜的CMOS兼容性与热预算管理
目标=CMOS产线兼容要求 · 热预算限制 · 低温沉积与后端集成工艺
CMOS硅光薄膜的
28
硅光薄膜在数据中心与通信中的应用案例
目标=400G/800G光模块 · 硅光收发器中的薄膜沉积方案与性能验证
硅光薄膜数据
29
硅光薄膜在传感与生物光子学中的应用案例
目标=氮化硅波导传感器 · 表面功能化薄膜 · 微流控集成与检测限优化
硅光薄膜传感
30
硅光薄膜沉积与材料工程前沿与展望
目标=二维材料 · 铁电薄膜 · 异质集成
硅光薄膜沉积材料工程前沿