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001-光刻设备与精密对准工程

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10门 系列课程
高端制造、半导体装备与精密工程 所属方向
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01
《KrF光刻设备工艺开发、曝光控制与量产调试工程》
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02
《光刻工艺EUV光刻机台焦点与曝光剂量联合优化调试》
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03
《光刻工艺LER控制与曝光显影参数整定与工艺优化》
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04
《光刻工艺工艺窗口验证与良率提升实战指南》
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05
《光刻工艺曝光显影与光刻工艺案例实战》
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06
《光刻工艺曝光显影与抗蚀剂性能优化工程》
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07
《光刻机台对准精度与套刻误差日常调试校准工程实践》
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08
《对准系统参数配置与ArF光刻机套刻精度调试实践》
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09
《掩模台运动控制与EUV光刻机套刻精度调试实践》
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10
《掩模台运动轨迹与ArF光刻机分辨率优化调试实践》
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