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基于t22ulp工艺的LVDS IP版图设计环境搭建

共计 30 章节
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01
课程导论
LVDS IP概述 · t22ulp工艺简介 · 版图设计环境搭建的重要性与课程目标
课程导论LVDS
02
t22ulp工艺PDK安装
PDK文件结构 · 安装步骤 · 环境变量设置
t22ulpPDK
03
EDA工具选型与安装
主流模拟版图工具介绍（Virtuos… · ICV等） · t22ulp工艺兼容性
EDA工具选型
04
Linux操作系统基础
常用命令（ls · cd · mkdir
Linux操作系统基础
05
Virtuoso环境初始化
启动Virtuoso · CIW窗口介绍 · Library Manager使用
Virtuoso环境初始化
06
工艺设计规则库（DRC/LVS）加载
DRC规则文件（.rul）与LVS规… · 在Virtuoso中关联规则库
DRC/LVS工艺设计规则库
07
PDK基础库解析
t22ulp工艺的标准单元库 · IO库 · 模拟库
PDK基础库解析
08
版图设计基础
版图层次（Layer）定义 · 设计规则（Design Rule）解… · 最小线宽/间距规则示例
版图设计基础Layer
09
LVDS IP电路原理回顾
LVDS发送器与接收器基本架构 · 关键电路模块（电流源 · 共模反馈
LVDSIP
10
LVDS IP版图规划
顶层Floorplan策略 · 模拟与数字分区 · 电源地网络规划
LVDSIP
11
器件创建与调用
MOS管 · 电阻 · 电容
器件创建调用
12
匹配技术
共质心布局 · 叉指结构 · 虚拟器件（Dummy）添加
匹配技术共质心布局
13
屏蔽与隔离
深N阱（DNW）隔离 · Guard Ring设计 · 衬底噪声抑制
屏蔽隔离
14
电源地网络设计
电源环（Power Ring）与电源… · 电流密度检查 · IR Drop考虑
电源地网络设计Power
15
关键信号走线
差分对走线规则 · 等长布线 · 阻抗控制
关键信号走线差分对走线规则
16
DRC验证
DRC规则设置 · 运行DRC · 常见错误解析（间距
DRC验证
17
LVS验证
LVS规则设置 · 提取网表 · LVS比对
LVS验证
18
寄生参数提取（PEX）
寄生参数提取设置 · R+C+CC提取 · 后仿真网表生成
PEX寄生参数提取
19
后仿真流程
将PEX网表导入仿真器 · 设置仿真环境 · 对比前仿真与后仿真结果
后仿真流程PEX
20
天线效应修复
天线规则检查 · 跳线（Jumper）插入 · 二极管添加
天线效应修复天线规则检查
21
ESD版图设计
ESD器件结构（GGNMOS · SCR） · ESD版图布局规则
ESD版图设计
22
IO与Pad设计
LVDS专用Pad结构 · Pad与内部电路的连接 · IO环布局
IOPad
23
版图验证自动化
Skill脚本编写DRC/LVS运行… · 批量验证流程 · 结果日志解析
版图验证自动化Skill
24
版图优化技巧
面积优化 · 性能优化（减少寄生 · 降低噪声）
版图优化技巧面积优化
25
t22ulp工艺特殊规则
双栅氧器件处理 · MIM电容特殊层次 · 电感下地平面要求
t22ulp工艺特殊规则
26
版图设计评审
评审清单（Checklist） · 常见设计缺陷 · 同行评审流程
版图设计评审Checklist
27
GDSII导出与交付
GDSII文件导出设置 · StreamOut选项 · 交付物清单（GDS
GDSII导出
28
项目实战案例1
LVDS发送器版图设计全流程（从Fl…
项目实战案例1LVDS
29
项目实战案例2
LVDS接收器版图设计全流程（重点
项目实战案例2LVDS
30
课程总结与进阶
常见问题FAQ · t22ulp工艺版图设计资源推荐 · 后续学习路径（高速SerDes
课程总结进阶