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《Sentaurus工艺波动与良率敏感性分析》
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本课程属于:219-Synopsys Sentaurus半导体器件TCAD工程
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Sentaurus工艺波动与良率敏感性分析
共计 30 章节
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01
课程导入与Sentaurus TCAD环境概览
目标=工艺波动与良率分析的目标 · 典型工作流 · Sentaurus Process/…
Sentaurus
TCAD
02
工艺波动来源与统计描述
目标=随机掺杂波动 · 线边缘粗糙度 · 栅氧厚度波动
工艺波动来源
统计描述
03
良率与敏感性分析核心指标
目标=良率定义 · 失效判据 · 工艺窗口
良率
敏感性分析核心指…
04
Sentaurus工艺仿真基础回顾
目标=工艺步骤命令 · 网格策略 · 掺杂激活模型
Sentaurus
工艺仿真基础回顾
05
Sentaurus Workbench实验设计入门
目标=项目组织 · 参数化变量 · 实验表
Sentaurus
Workbench
06
统计分布与采样方法
目标=正态/对数正态/均匀分布 · 拉丁超立方采样 · Sobol序列
统计分布
采样方法
07
随机掺杂波动建模实战
目标=Sentaurus中随机杂质分… · RDF对阈值电压与亚阈值特性的影响仿… · 统计样本提取
随机掺杂波动建模…
Sentaurus
08
线边缘粗糙度与几何波动建模
目标=LER/LWR表征 · 栅极图形波动注入 · Sentaurus Structur…
线边缘粗糙度
几何波动建模
09
工艺参数波动注入方法
目标=氧化时间 · 扩散温度 · 离子注入剂量/能量
工艺参数波动注入…
目标=氧化时间
10
蒙特卡洛良率仿真流程搭建
目标=从工艺仿真到器件仿真再到电路级… · 结果汇总与良率计算
蒙特卡洛良率仿真…
目标=从工艺仿真…
11
敏感性分析基础方法
目标=单变量扫描 · OAT分析 · 散点图
敏感性分析基础方…
目标=单变量扫描
12
方差分解与全局敏感性分析
目标=Sobol指数 · FAST方法 · Morris筛选
方差分解
全局敏感性分析
13
响应面模型与代理模型
目标=多项式回归 · Kriging · 神经网络代理模型
响应面模型
代理模型
14
工艺窗口与设计裕度分析
目标=基于器件指标(Vt · Ion · Ioff
工艺窗口
设计裕度分析
15
典型器件波动案例
目标=FinFET/纳米片器件中工艺… · 统计仿真设置与结果分析
典型器件波动案例
FinFET
16
SRAM良率与稳定性敏感性分析
目标=蝶形曲线 · 静态噪声容限 · 读写裕度
SRAM
良率
17
模拟/混合信号电路波动分析
目标=匹配 · 失调 · 增益带宽波动
模拟
混合信号电路波动…
18
先进工艺节点中的波动挑战
目标=EUV光刻波动 · 多重图形化 · 应变工程波动
先进工艺节点
波动挑战
19
Sentaurus脚本自动化与批处理
目标=Tcl/Python脚本 · SWB参数化 · 结果自动提取
Sentaurus
脚本自动化
20
数据可视化与统计报告
目标=SVisual/Origin/… · 分布直方图 · 帕累托图
数据可视化
统计报告
21
模型校准与波动模型验证
目标=实验数据对标 · 工艺模型校准 · 波动模型置信度评估
模型校准
波动模型验证
22
良率提升与工艺优化实战
目标=基于敏感性排序的工艺参数优化 · 鲁棒设计 · 工艺窗口中心化与容差分配
良率提升
工艺优化实战
23
多变量相关性与主成分分析
目标=工艺参数相关性建模 · PCA降维 · 关键波动因子识别
多变量相关性
主成分分析
24
故障分析与失效模式关联
目标=电学失效与工艺波动的关联分析 · 缺陷率模型 · 良率损失分解与根因定位
故障分析
失效模式关联
25
高级采样与加速良率分析
目标=重要性采样 · 子集模拟 · 贝叶斯优化
高级采样
加速良率分析
26
工艺波动对可靠性的影响
目标=NBTI/PBTI · TDDB · 热载流子退化中的波动敏感性
工艺波动对可靠性…
NBTI/PBTI
27
三维集成与先进封装波动分析
目标=TSV · 微凸点 · 键合工艺波动
三维集成
先进封装波动分析
28
机器学习辅助良率分析
目标=特征工程 · 分类/回归模型 · 异常检测
机器学习辅助良率…
目标=特征工程
29
完整项目实战
目标=从工艺波动定义 · Sentaurus仿真 · 敏感性分析到良率报告的全流程案例复现…
完整项目实战
目标=从工艺波动…
30
课程总结与前沿展望
目标=核心方法回顾 · 常见陷阱 · 最佳实践
课程总结
前沿展望
所属VIP或分类
同VIP:Sentaurus-MOS器件工艺建模与验证
同VIP:Sentaurus-SiC功率器件仿真工程
同VIP:Sentaurus-TCAD仿真流程自动化