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Sentaurus半导体工艺流程仿真工程

共计 30 章节
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01
课程导入与Sentaurus TCAD工具链概览
目标=Sentaurus Proce… · Sentaurus Structur… · Sentaurus Device等模…
SentaurusTCAD
02
Sentaurus Process命令行与脚本基础
目标=工具启动方式 · 命令文件结构 · 日志与输出文件管理
SentaurusProcess
03
工艺仿真中的网格与结构表示
目标=一维/二维/三维网格生成策略 · 自适应网格细化 · 结构文件格式与可视化方法
工艺仿真网格
04
硅基CMOS工艺仿真对象建模
目标=从衬底到互连的完整CMOS结构… · 材料层堆叠 · 掺杂分布与电极定义
CMOS硅基
05
氧化工艺仿真
目标=Deal-Grove模型与质量… · 干氧/湿氧氧化 · 氧化速率参数提取与氧化层厚度验证
氧化工艺仿真Deal-Grove
06
扩散与退火工艺仿真
目标=杂质扩散方程 · 配对扩散模型 · 瞬态增强扩散
扩散退火工艺仿真
07
离子注入仿真
目标=注入分布解析模型与蒙特卡洛方法 · 沟道效应 · 倾斜注入与掩膜遮挡
离子注入仿真目标=注入分布解…
08
刻蚀与沉积工艺仿真
目标=各向同性/各向异性刻蚀 · 反应离子刻蚀模型 · CVD/PVD沉积速率与保形性设置
刻蚀沉积工艺仿真
09
光刻胶与图形转移仿真
目标=光刻胶曝光 · 显影轮廓建模 · 刻蚀选择比与图形转移误差分析
光刻胶图形转移仿真
10
外延生长与应变工程仿真
目标=SiGe/SiC外延 · 应变弛豫与位错 · 能带结构与迁移率影响
外延生长应变工程仿真
11
金属化与互连工艺仿真
目标=接触孔/通孔填充 · 阻挡层与籽晶层沉积 · 电镀铜与CMP平坦化建模
金属化互连工艺仿真
12
FinFET工艺流程仿真实战
目标=从体硅到鳍形结构 · 侧墙转移 · 源漏外延与栅极堆叠的完整流程搭建
FinFET工艺流程仿真实战
13
GAA纳米片工艺流程仿真
目标=多层Si/SiGe叠层刻蚀 · 内侧墙形成 · 沟道释放与环绕栅极结构生成
GAA纳米片工艺流程仿…
14
功率器件工艺流程仿真
目标=IGBT · MOSFET与肖特基二极管的关键工艺… · 深结与场限环设计
功率器件工艺流程…IGBT
15
光电器件工艺流程仿真
目标=LED · 光电探测器与太阳能电池的掺杂 · 钝化与抗反射层工艺建模
光电器件工艺流程…LED
16
存储器工艺流程仿真
目标=DRAM电容 · 3D NAND堆叠与PCRAM/Re…
存储器工艺流程仿…DRAM
17
工艺仿真中的校准与实验设计
目标=与SIMS · TEM · SEM数据对比
工艺仿真校准
18
Sentaurus Process与Sentaurus Device联合仿真
目标=工艺结构导入器件仿真 · 电学特性预测与工艺-器件协同优化
SentaurusProcess
19
工艺变异性与统计仿真
目标=随机掺杂波动 · 线边缘粗糙度 · 工艺参数分布与蒙特卡洛统计分析方法
工艺变异性统计仿真
20
先进节点工艺集成仿真
目标=FinFET与GAA中的高k/… · 应变工程 · 接触电阻与寄生电容协同优化
先进节点工艺集成…FinFET
21
三维工艺仿真与拓扑操作
目标=Sentaurus Struc… · 布尔运算 · 结构修复与网格质量检查
三维工艺仿真拓扑操作
22
工艺仿真中的高级扩散模型
目标=团簇模型 · 晶粒边界扩散 · 应力对扩散的影响与激活退火模拟
工艺仿真高级扩散模型
23
刻蚀与沉积的拓扑仿真进阶
目标=水平集方法 · 表面演化算法 · 三维刻蚀轮廓预测与工艺窗口分析
刻蚀沉积的拓扑仿真进…
24
热预算与工艺集成顺序优化
目标=热积分配 · 掺杂再分布 · 多层工艺交互影响与流程简化策略
热预算工艺集成顺序优化
25
缺陷与可靠性工艺仿真
目标=氧化层缺陷 · 界面态 · 热载流子注入与NBTI/PBTI相关…
缺陷可靠性工艺仿真
26
Sentaurus Workbench与实验管理
目标=项目组织 · 参数扫描 · 作业提交
SentaurusWorkbench
27
工艺仿真脚本开发与自动化
目标=Tcl/Python脚本接口 · 批量运行 · 结果提取与自定义分析工具开发
工艺仿真脚本开发自动化
28
工艺仿真结果验证与不确定性量化
目标=数值收敛性 · 模型适用性评估 · 误差来源分析与置信区间估计
工艺仿真结果验证不确定性量化
29
面向制造的设计与工艺窗口仿真
目标=工艺窗口定义 · 设计规则与工艺规则协同 · 良率预测与鲁棒性优化
面向制造的设计工艺窗口仿真
30
综合项目
目标=先进逻辑器件全流程工艺仿真 · 校准 · 器件仿真与性能评估
综合项目目标=先进逻辑器…