3. Sentaurus Device仿真核心

Sentaurus Device(SDevice)是器件电学特性仿真的核心求解器。它把器件结构离散成网格,在每个网格节点上求解泊松方程与载流子连续性方程,从而得到电势、载流子浓度、电流密度等物理量。理解这套求解框架,是后续做结构优化、参数扫描和结果判读的前提。本节围绕五个相互咬合的环节展开:漂移-扩散模型、载流子输运方程、边界条件、材料参数库调用、求解器设置。

一、漂移-扩散模型:默认的输运框架

漂移-扩散(Drift-Diffusion, DD)模型是SDevice最常用的输运模型。它假设载流子在局部热平衡下运动,电流由漂移和扩散两部分组成。对电子和空穴分别有:

Jn = q·μn·n·E + q·Dn·∇n
Jp = q·μp·p·E − q·Dp·∇p

其中 q 为电子电荷,μn、μp 为迁移率,Dn、Dp 为扩散系数,E 为电场。扩散系数与迁移率通过爱因斯坦关系 D = μ·kT/q 关联。DD模型的核心未知量是电势 ψ、电子浓度 n、空穴浓度 p,三者通过泊松方程和两个连续性方程耦合:

∇·(ε∇ψ) = −q(p − n + Nd⁺ − Na⁻)
∂n/∂t = (1/q)∇·Jn + Gn − Rn
∂p/∂t = −(1/q)∇·Jp + Gp − Rp

在稳态仿真中,时间导数项为零,方程退化为非线性椭圆方程组。DD模型计算量小、收敛性好,适合大多数硅基器件;当器件尺寸进入纳米级、出现非局部输运或速度过冲时,才需要切换到流体动力学(HD)或蒙特卡洛模型。

二、载流子输运方程与物理模型选择

DD模型本身只给出框架,真正决定仿真精度的是迁移率、复合、产生等物理模型。SDevice通过 Physics 段调用这些模型。常用组合包括:

  • 迁移率模型:Philips Unified 或 Lombardi 模型,描述体迁移率、表面散射和速度饱和;
  • 复合模型:SRH(Shockley-Read-Hall)复合、Auger 复合、辐射复合;
  • 产生模型:带间隧穿(BTBT)、陷阱辅助隧穿(TAT);
  • 统计模型:Boltzmann 统计或 Fermi-Dirac 统计,重掺杂时建议用 Fermi-Dirac。

模型不是越多越好。每增加一个模型,方程的非线性程度和求解难度都会上升。工程上应遵循“先简后繁”的原则:先用默认模型跑通,再根据实验对比逐步加入必要模型。

三、边界条件:欧姆接触、肖特基与绝缘边界

边界条件决定了器件与外部世界的连接方式,是仿真能否收敛和结果是否合理的关键。SDevice中常见的边界类型有:

  • 欧姆接触(Ohmic):假设接触处载流子处于热平衡,电势由外加偏压决定,常用于源、漏、衬底电极;
  • 肖特基接触(Schottky):给定势垒高度,载流子通过热电子发射或隧穿越过势垒;
  • 绝缘边界(Insulator):法向电流为零,用于氧化层或钝化层界面;
  • 浮动接触(Floating):电极电流为零,用于未连接电极的浮空节点。

以NMOS为例,源、漏、衬底通常设为欧姆接触,栅极通过氧化层与沟道耦合,氧化层界面设为绝缘边界。偏压扫描时,源和衬底接地,漏极加 Vds,栅极加 Vgs,通过 Quasistationary 逐步改变电压。

四、材料参数库调用

SDevice自带材料参数库,覆盖硅、锗、砷化镓、碳化硅等常见材料。调用方式是在 File 段指定材料文件,或在 Physics 段用 Material 语句覆盖默认参数。例如:

Physics {
  Mobility( Philips )
  Recombination( SRH Auger )
}
Physics (Material="Silicon") {
  Mobility( mu_max=1400, mu_min=65 )
}

材料参数库中的默认值来自文献和实验拟合,但实际工艺中掺杂浓度、缺陷密度、界面态等会偏离默认值。因此,工程上常需要根据实验数据校准关键参数,如 SRH 寿命、界面陷阱密度、势垒高度等。校准后的参数应记录在单独的材料文件中,便于复用和版本管理。

五、求解器设置:耦合、牛顿迭代与收敛控制

SDevice的求解器分为两类:耦合求解(Coupled)和分离求解(Plugin)。耦合求解把泊松方程和连续性方程联立,用牛顿法迭代;分离求解则逐个方程求解,适合初值较差的情况。典型设置如下:

Math {
  Method = ILS
  Extrapolate
  RelErrControl
  Digits = 5
  Iterations = 20
  Notdamped = 50
}
Solve {
  Coupled( Iterations=100 ) { Poisson }
  Coupled( Iterations=100 ) { Poisson Electron Hole }
  Quasistationary(
    InitialStep=1e-3 Increment=1.5 Decrement=2
    MinStep=1e-6 MaxStep=0.1
  ) { Goal { Voltage=Vd } }
}

收敛控制的关键参数包括:Digits(收敛精度)、Iterations(最大迭代次数)、InitialStep/Increment/Decrement(电压步长控制)。当仿真不收敛时,可先减小步长、增加迭代次数,或改用分离求解提供初值,再切换到耦合求解。

Sentaurus Device 求解框架与数据流 器件结构 网格 / 掺杂 / 电极 (SDE / 命令文件) 材料参数库 Si / Ge / GaAs / SiC 迁移率 / 复合 / 带隙 物理模型 DD / HD / 隧穿 SRH / Auger / BTBT 边界条件 欧姆 / 肖特基 绝缘 / 浮动接触 SDevice 求解器 泊松方程 ∇·(ε∇ψ) = −q(p−n+Nd−Na) 电子连续性方程 ∂n/∂t = (1/q)∇·Jn + Gn − Rn 空穴连续性方程 ∂p/∂t = −(1/q)∇·Jp + Gp − Rp 牛顿迭代 / 耦合求解 收敛判据: Digits / RelErr 仿真结果 I-V 特性曲线 电势 / 载流子分布 电流密度矢量 电场 / 迁移率分布 参数校准 / 模型修正反馈 数据流:结构+材料+模型+边界 → 耦合求解 → 结果输出 → 校准反馈

六、典型设置流程与收敛判断

一个完整的SDevice仿真通常按以下顺序组织:先读入网格和掺杂文件,再在 Physics 段声明材料参数和物理模型,然后在 Electrode 段定义电极和边界条件,最后在 Solve 段设置求解策略。以二极管正向特性为例,可先做零偏平衡求解,再逐步增加正向电压:

Solve {
  Coupled { Poisson }
  Coupled { Poisson Electron Hole }
  Quasistationary(
    InitialStep=0.01 Increment=1.3
    Decrement=2 MinStep=1e-5 MaxStep=0.2
  ) {
    Goal { Voltage=0.8 }
    Plot { Range=(0,0.8) Intervals=9 }
  }
}

判断收敛是否合理,不能只看“是否报错”。应检查:电流是否随电压单调变化、残差是否降到设定精度、I-V曲线是否出现异常跳变。若在某个电压点不收敛,可先减小步长、增加迭代次数,或改用分离求解提供初值。收敛后,还应与实验数据或文献结果对比,确认模型和参数设置是否合理。

工程建议:把材料参数、物理模型、求解器设置分别写成独立的命令文件,用 Include 语句组合。这样在切换器件结构或做参数扫描时,只需替换结构文件,物理和求解设置可以复用,减少重复劳动和人为错误。

总结来说,SDevice仿真的核心是“方程+模型+边界+参数+求解器”五要素的协同。漂移-扩散模型提供基本框架,载流子输运方程描述物理过程,边界条件定义器件与外部连接,材料参数库提供物性数据,求解器设置决定能否稳定收敛。只有这五者匹配,仿真结果才具有工程参考价值。