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本课程属于：008-晶圆量测、良率与失效分析 芯片硬件与光电工程 · 共 9 门相关课程，组合学习更完整。
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OCD关键尺寸量测、模型反演与工艺反馈工程

共计 30 章节
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01
课程导入
目标=OCD关键尺寸量测 · 模型反演与工艺反馈工程的学习目标 · 核心概念
课程导入OCD
02
半导体量测基础
目标=关键尺寸定义 · OCD与CD-SEM/AFM/椭偏仪… · 量测在先进制程中的地位与挑战
半导体量测基础目标=关键尺寸定…
03
OCD量测原理
目标=光谱椭偏 · 反射光谱 · 穆勒矩阵
OCD量测原理
04
OCD硬件与系统构成
目标=光源 · 偏振调制器 · 探测器
OCD硬件
05
关键尺寸与结构参数
目标=线宽 · 侧壁角 · 高度
关键尺寸结构参数
06
正向建模基础
目标=严格耦合波分析 · 有限元/有限差分方法 · 散射矩阵
正向建模基础目标=严格耦合波…
07
光学常数与材料模型
目标=色散模型 · 有效介质近似 · 界面层
光学常数材料模型
08
模型反演核心概念
目标=逆问题 · 病态性 · 多解性
模型反演核心概念目标=逆问题
09
反演算法与优化方法
目标=最小二乘 · Levenberg-Marquard… · 遗传算法
反演算法优化方法
10
量测配方开发流程
目标=结构选型 · 波长范围选择 · 入射角优化
量测配方开发流程目标=结构选型
11
灵敏度与不确定性分析
目标=参数灵敏度矩阵 · 误差传播 · 置信区间
灵敏度不确定性分析
12
模型标定与验证
目标=参考量测对比 · 标准片使用 · 交叉验证
模型标定验证
13
工艺反馈工程概述
目标=量测数据到工艺控制的闭环 · 反馈与前馈 · 统计过程控制与先进过程控制
工艺反馈工程概述目标=量测数据到…
14
工艺反馈建模方法
目标=响应曲面 · 偏最小二乘 · 神经网络
工艺反馈建模方法目标=响应曲面
15
OCD与APC集成
目标=量测延迟 · 采样率 · 控制周期
OCDAPC
16
案例实战一
目标=FinFET/纳米片关键尺寸O…
案例实战一FinFET
17
案例实战二
目标=3D NAND高深宽比结构OC… · 反演挑战与工艺反馈应用
案例实战二NAND
18
案例实战三
目标=光刻胶线条与刻蚀后结构OCD量… · 模型失配诊断与工艺漂移补偿
案例实战三OCD
19
常见问题与故障排除
目标=模型不收敛 · 参数耦合 · 光谱异常
常见问题故障排除
20
量测数据管理与自动化
目标=数据采集 · 数据库 · 配方版本控制
量测数据管理自动化
21
先进制程挑战
目标=EUV光刻 · 高数值孔径 · 三维器件
先进制程挑战EUV
22
机器学习与人工智能应用
目标=深度学习反演 · 代理模型加速 · 迁移学习
机器学习人工智能应用
23
混合量测策略
目标=OCD与CD-SEM · AFM · X射线散射
混合量测策略OCD
24
工艺反馈工程实战
目标=基于OCD的刻蚀/沉积/光刻工… · 控制器设计与效果评估
工艺反馈工程实战OCD
25
量测系统匹配与匹配方法
目标=多机台匹配 · 工具匹配 · 模型匹配
量测系统匹配匹配方法
26
精度与鲁棒性提升
目标=抗噪反演 · 多目标优化 · 鲁棒配方设计
精度鲁棒性提升
27
综合项目一
目标=从零构建OCD量测与反演方案 · 包括需求分析 · 建模
综合项目一OCD
28
综合项目二
目标=设计OCD量测驱动的工艺反馈控… · 包括数据流 · 控制策略
综合项目二OCD
29
课程总结与知识体系
目标=核心知识点回顾 · 方法流程梳理 · 能力自评与持续学习路径
课程总结知识体系
30
前沿展望与职业发展
目标=OCD量测 · 模型反演与工艺反馈的未来趋势 · 研究热点
前沿展望职业发展