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002-薄膜沉积、刻蚀与等离子体设备工程

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16门 系列课程
高端制造、半导体装备与精密工程 所属方向
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01
《刻蚀工艺故障排查：侧壁损伤与负载效应解决思路》
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02
《刻蚀设备工艺气路、流量与腔压控制系统工程》
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03
《刻蚀设备等离子体源稳定性与均匀性调试》
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04
《刻蚀设备终点检测、过程控制与工艺窗口工程》
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05
《刻蚀设备静电吸盘、背氦与晶圆温控系统工程》
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06
《原子层沉积ALD在先进封装中的薄膜均匀性应用》
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07
《反应腔室维护周期对CVD薄膜沉积重复性影响分析》
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08
《封装工艺流程中TSV深孔刻蚀与填充工艺参数优化》
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09
《深硅刻蚀Bosch工艺设备调试》
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10
《真空镀膜设备选型与配置：薄膜沉积技术工程案例》
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11
《等离子体刻蚀射频系统设计、匹配与稳定性工程》
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12
《等离子体增强PVD薄膜应力与膜厚一致性控制工程》
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13
《薄膜沉积均匀性调控：PECVD与ALD在先进节点的应用》
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14
《薄膜沉积应力控制：PECVD氮化硅对晶圆翘曲影响》
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15
《薄膜沉积技术：CVD与PVD原理与应用》
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16
《薄膜沉积高k介质ALD沉积工艺与界面缺陷控制》
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