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高端制造、半导体装备与精密工程
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002-薄膜沉积、刻蚀与等离子体设备工程
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《刻蚀设备终点检测、过程控制与工艺窗口工程》
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本课程属于:002-薄膜沉积、刻蚀与等离子体设备工程
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刻蚀设备终点检测、过程控制与工艺窗口工程
共计 30 章节
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01
刻蚀终点检测的工程定位
目标=从等离子体刻蚀机理出发 · 理解终点检测在刻蚀设备中的角色 · 典型信号链与工艺窗口的耦合关系
刻蚀终点检测的工…
目标=从等离子体…
02
终点检测信号源与传感器选型
目标=OES · 干涉仪 · 质谱
终点检测信号源
传感器选型
03
OES终点检测实战
目标=光谱采集配置 · 特征谱线选择 · 信噪比优化
OES
终点检测实战
04
干涉式终点检测实战
目标=激光干涉与白光干涉原理 · 膜厚与刻蚀深度换算 · 图形化晶圆上的信号解译
干涉式终点检测实…
目标=激光干涉
05
质谱终点检测实战
目标=残余气体分析 · 刻蚀产物分压变化 · 灵敏度与响应时间权衡
质谱终点检测实战
目标=残余气体分…
06
射频与电学信号终点检测
目标=自偏压 · RF功率 · 阻抗匹配网络信号的变化规律与终点判定…
射频
电学信号终点检测
07
多传感器融合终点判定
目标=信号同步采集 · 特征提取 · 投票与加权决策
多传感器融合终点…
目标=信号同步采…
08
终点检测算法与实时实现
目标=阈值法 · 斜率法 · 主成分分析
终点检测算法
实时实现
09
终点检测在CCP与ICP刻蚀设备中的差异
目标=源功率 · 偏压 · 气压与气体化学对终点信号的影响与适配…
CCP
ICP
10
终点检测在导体刻蚀中的应用
目标=多晶硅 · 金属栅 · 铝互连等刻蚀的终点特征与典型配方调试
终点检测
导体刻蚀
11
终点检测在介质刻蚀中的应用
目标=氧化硅 · 氮化硅 · 低k介质刻蚀的终点信号特点与过刻蚀控…
终点检测
介质刻蚀
12
终点检测在深硅刻蚀中的应用
目标=Bosch工艺 · 高深宽比结构 · 侧壁保护与终点信号衰减问题
终点检测
深硅刻蚀
13
终点检测在三维NAND与DRAM高深宽比刻蚀中的挑战
目标=信号穿透 · 延迟 · 负载效应与补偿方法
NAND
DRAM
14
刻蚀过程控制基础
目标=从统计过程控制到先进过程控制 · 理解过程变量 · 被控变量与扰动通道
刻蚀过程控制基础
目标=从统计过程…
15
刻蚀速率与均匀性控制
目标=通过功率 · 气压 · 气体流量
刻蚀速率
均匀性控制
16
刻蚀关键尺寸与轮廓控制
目标=CD · 侧壁角 · 底切
刻蚀关键尺寸
轮廓控制
17
刻蚀选择比控制
目标=对掩模 · 底层材料的选择比调控 · 以及终点检测与选择比工程的协同
刻蚀选择比控制
目标=对掩模
18
刻蚀腔体状态与 seasoning 控制
目标=腔体壁沉积 · 部件老化 · 清洗周期对刻蚀速率与终点信号的影响
seasoning
刻蚀腔体状态
19
虚拟量测与软测量在刻蚀控制中的应用
目标=基于设备传感器数据预测刻蚀深度 · CD与形貌
虚拟量测
软测量
20
先进过程控制与 Run-to-Run 控制
目标=模型预测 · 指数加权移动平均 · 批次间反馈与前馈补偿实战
Run-to-Run
先进过程控制
21
刻蚀工艺窗口的定义与量化
目标=窗口边界 · 中心点 · 容差
刻蚀工艺窗口的定…
量化
22
工艺窗口实验设计实战
目标=响应曲面法 · 正交实验 · 贝叶斯优化在刻蚀参数优化中的实施步骤
工艺窗口实验设计…
目标=响应曲面法
23
工艺窗口与终点检测的联合优化
目标=终点判定阈值 · 过刻蚀时间与工艺窗口重叠区的协同设计
工艺窗口
终点检测的联合优…
24
刻蚀设备故障诊断与终点异常处理
目标=信号漂移 · 传感器失效 · 腔体异常与误终点的排查流程
刻蚀设备故障诊断
终点异常处理
25
刻蚀过程的数据采集与工厂级集成
目标=SECS/GEM · FDC · APC
刻蚀过程的数据采…
工厂级集成
26
终点检测与过程控制的可靠性工程
目标=重复性 · 再现性 · 漂移补偿
终点检测
过程控制的可靠性…
27
面向新材料的刻蚀终点检测
目标=高k介质 · 铁电材料 · 二维材料等新型薄膜的终点信号探索与挑…
面向新材料的刻蚀…
目标=高k介质
28
原子层刻蚀与准原子层刻蚀的终点检测
目标=自限制反应 · 循环步骤中的信号特征与终点判定策略
原子层刻蚀
准原子层刻蚀的终…
29
刻蚀工艺窗口工程案例
目标=从研发到量产 · 某先进节点刻蚀工艺的窗口建立 · 终点检测调优与良率提升
刻蚀工艺窗口工程…
目标=从研发到量…
30
课程综合实战
目标=给定刻蚀设备与工艺目标 · 完成终点检测方案设计 · 过程控制策略与工艺窗口验证的完整项目
课程综合实战
目标=给定刻蚀设…
所属VIP或分类
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