首页
›
热销单品
›
芯片半导体与FPGA
›
《半导体良率工程师核心技能速成》
所属分类:芯片半导体与FPGA
当前为单品课程,可返回上一级继续浏览同方向资料。
← 返回上一级
← 返回所属目录
咨询 / 购买
半导体良率工程师核心技能速成
共计 30 章节
点击此处阅读海量试读课程:100+行业、1000+细分领域
01
半导体制造基础
晶圆制造流程 · 前道与后道工艺概述 · 摩尔定律与工艺节点
半导体制造基础
晶圆制造流程
02
良率定义与分类
晶圆良率 · 封装良率 · 最终测试良率
良率定义
分类
03
缺陷工程入门
缺陷来源(颗粒 · 划伤 · 残留)
缺陷工程入门
缺陷来源
04
统计过程控制(SPC)基础
控制图原理 · 均值-极差图 · 均值-标准差图
SPC
统计过程控制
05
工艺能力指数(Cpk/Ppk)
Cpk计算 · Ppk计算 · Cpk与良率的关系
Cpk/Ppk
工艺能力指数
06
良率分析工具
帕累托图 · 鱼骨图 · 散点图
良率分析工具
帕累托图
07
测试结构设计
测试键(Test Key)设计 · 参数测试(WAT)项目 · 电性参数与良率关联
测试结构设计
Test
08
关键工艺模块(FEOL)
浅槽隔离(STI) · 栅极氧化层 · 多晶硅栅极工艺与常见缺陷
FEOL
关键工艺模块
09
关键工艺模块(BEOL)
金属互连 · 通孔 · 介质层
BEOL
关键工艺模块
10
良率管理系统
良率管理系统(YMS)架构 · 数据采集与存储 · 良率报表自动化
良率管理系统
YMS
11
空间良率分析
晶圆图(Wafer Map)分析 · 空间相关性 · 聚类缺陷识别
空间良率分析
Wafer
12
良率模型与预测
泊松模型 · 负二项模型 · 良率预测方法
良率模型
预测
13
失效分析(FA)基础
失效分析流程 · 光学显微镜 · 扫描电子显微镜(SEM)
FA
失效分析
14
电性失效分析(EFA)
电压衬度(VC) · 热成像 · 光子发射显微镜(PEM)
EFA
电性失效分析
15
物理失效分析(PFA)
透射电子显微镜(TEM) · 能谱分析(EDS) · 二次离子质谱(SIMS)
PFA
物理失效分析
16
良率提升方法论
DMAIC(定义 · 测量 · 分析
良率提升方法论
DMAIC
17
实验设计(DOE)基础
全因子设计 · 部分因子设计 · 响应曲面法
DOE
实验设计
18
大数据与良率分析
数据挖掘 · 相关性分析 · 主成分分析(PCA)
大数据
良率分析
19
良率会议与报告
良率会议流程 · 日报/周报/月报制作 · 关键指标(KPI)汇报
良率会议
报告
20
良率与成本
良率对芯片成本的影响 · 成本模型 · 良率提升的ROI计算
良率
成本
21
光刻工艺与良率
光刻流程 · 对准精度 · 关键尺寸(CD)均匀性
光刻工艺
良率
22
刻蚀工艺与良率
刻蚀速率 · 选择比 · 侧壁粗糙度
刻蚀工艺
良率
23
薄膜工艺与良率
化学气相沉积(CVD) · 物理气相沉积(PVD) · 薄膜应力
薄膜工艺
良率
24
离子注入与扩散
注入剂量 · 能量 · 退火工艺
离子注入
扩散
25
化学机械抛光(CMP)
CMP原理 · 平坦度控制 · 碟形缺陷
CMP
化学机械抛光
26
清洗工艺与良率
湿法清洗 · 干法清洗 · 颗粒去除效率
清洗工艺
良率
27
良率提升案例研究
典型良率问题(如颗粒缺陷 · 桥接 · 断线)的根因分析与改善
良率提升案例研究
典型良率问题
28
先进工艺节点挑战
FinFET/GAA结构 · 极紫外光刻(EUV) · 高迁移率材料带来的良率挑战
先进工艺节点挑战
FinFET/GAA
29
良率工程师职业素养
跨部门沟通 · 项目管理 · 持续学习
良率工程师职业素…
跨部门沟通
30
良率工程师实战演练
模拟良率数据分析 · 制定改善计划 · 编写良率报告
良率工程师实战演…
模拟良率数据分析
所属VIP或分类
同VIP:3D-IC设计EDA工具链三维设计流程入门到精通
同VIP:3D-IC设计三维布局布线物理设计入门到精通
同VIP:3D-IC设计与Chiplet异构集成协同:从入门到精通