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高端制造、半导体装备与精密工程
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004-CMP、晶圆清洗与湿法设备工程
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《纯水系统TOC去除效率提升与UV氧化工艺参数优化》
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纯水系统TOC去除效率提升与UV氧化工艺参数优化
共计 30 章节
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01
课程导论
纯水系统中TOC的来源与危害 · TOC去除效率提升的重要性
课程导论
TOC
02
TOC基础概念
总有机碳的定义 · 测量原理(燃烧氧化法 · 湿法氧化法)
TOC
基础概念
03
纯水系统概述
纯水制备工艺流程(预处理 · RO · EDI
纯水系统概述
纯水制备工艺流程
04
UV氧化技术原理
光化学氧化基础 · 185nm与254nm波长作用机制 · 羟基自由基生成路径
UV
氧化技术原理
05
UV反应器设计基础
反应器类型(管式 · 浸没式) · 光强分布
UV
反应器设计基础
06
影响TOC去除的关键因素
进水TOC浓度 · 水质背景(电导率 · pH
TOC
影响
07
UV剂量与TOC去除率关系
剂量定义(mJ/cm²) · 剂量-去除率曲线 · 阈值效应
UV
TOC
08
过氧化氢(H₂O₂)辅助UV氧化
H₂O₂投加原理 · 最佳摩尔比 · 副产物控制
UV
过氧化氢
09
光催化剂(TiO₂)辅助UV氧化
光催化机理 · 催化剂负载方式 · 再生与寿命
TiO
UV
10
臭氧(O₃)辅助UV氧化
O₃/UV协同机制 · O₃投加量优化 · 尾气处理
UV
臭氧
11
UV灯管选型与维护
低压汞灯 · 中压汞灯 · 准分子灯对比
UV
灯管选型
12
石英套管与清洗系统
套管材质(石英 · 高硼硅) · 机械清洗与化学清洗方案
石英套管
清洗系统
13
UV反应器流体力学优化
CFD模拟基础 · 导流板设计 · 死区消除
UV
反应器流体力学优…
14
在线TOC监测仪表
在线TOC分析仪原理(UV过硫酸盐法 · 电导率法) · 校准与维护
TOC
监测仪表
15
工艺参数优化方法论
单因素实验设计 · 响应曲面法(RSM) · 正交实验设计
工艺参数优化方法…
单因素实验设计
16
响应曲面法(RSM)实战
中心复合设计(CCD) · 模型拟合 · 方差分析(ANOVA)
RSM
响应曲面法
17
机器学习辅助参数优化
神经网络(ANN)建模 · 遗传算法(GA)寻优 · 数据驱动策略
机器学习辅助参数…
ANN
18
pH调节对TOC去除的影响
pH对自由基生成效率的影响 · 最佳pH范围 · 酸/碱投加控制
pH
TOC
19
温度对UV氧化效率的影响
温度对反应动力学的影响 · 冷却系统设计 · 能耗平衡
UV
温度对
20
溶解氧(DO)与TOC去除
DO作为自由基前驱体 · 曝气策略 · DO在线控制
DO
TOC
21
TOC去除动力学模型
一级动力学 · 二级动力学 · Langmuir-Hinshelwo…
TOC
去除动力学模型
22
副产物生成与控制
溴酸盐 · 亚硝酸盐 · 醛类生成机理
副产物生成
控制
23
能耗分析与成本优化
UV灯管电耗 · H₂O₂/O₃药剂成本 · 维护成本
能耗分析
成本优化
24
案例研究1
半导体超纯水系统TOC去除优化(进水… · 出水<1ppb)
案例研究1
TOC
25
案例研究2
制药纯化水系统TOC去除优化(USP… · EP<500ppb)
案例研究2
TOC
26
案例研究3
电力行业锅炉补给水TOC去除优化(T… · 防止腐蚀)
案例研究3
TOC
27
UV反应器放大设计
从实验室到工业级 · 放大准则(光强 · 停留时间
UV
反应器放大设计
28
自动化控制与SCADA集成
PLC控制逻辑 · PID调节UV强度 · HMI界面设计
SCADA
自动化控制
29
法规与标准
USP · EP 2.2.44 · 中国药典纯化水TOC标准
法规
标准
30
课程总结与前沿趋势
先进氧化工艺(AOPs)发展 · UV-LED技术 · 智能运维展望
课程总结
前沿趋势
所属VIP或分类
同VIP:CMP与晶圆平坦化设备配置调试与现场应用
同VIP:CMP平坦化工艺性能调优:材料去除率与表面缺陷控制
同VIP:CMP平坦化工艺液流量与压力联合优化及终点检测