首页
›
高端制造、半导体装备与精密工程
›
003-离子注入与束流设备工程
›
《离子注入质量分析、束流选择与磁铁控制工程》
VIP11
本课程属于:003-离子注入与束流设备工程
高端制造、半导体装备与精密工程 · 共 11 门相关课程,组合学习更完整。
查看所属VIP全部课程 →
← 返回所属目录
咨询 / 购买
📘
离子注入质量分析、束流选择与磁铁控制工程
共计 30 章节
可可资料掘金营 · 点击在线试看
01
离子注入系统总览与质量分析定位
目标=离子源 · 引出电极 · 质量分析磁铁
离子注入系统总览
质量分析定位
02
离子束基本参数与质量分析需求
目标=离子种类 · 电荷态 · 质量数
离子束基本参数
质量分析需求
03
离子在电磁场中的运动基础
目标=洛伦兹力 · 回旋运动 · 磁刚度
离子
电磁场
04
质量分析磁铁类型与工作原理
目标=90° · 120° · 180°扇形磁铁
质量分析磁铁类型
工作原理
05
质量分辨率与束流选择狭缝
目标=质量分辨率定义 · 狭缝宽度与像差 · 同位素分离
质量分辨率
束流选择狭缝
06
离子源引出与质量分析入口束流匹配
目标=引出电极 · 预加速 · 入口发射度
离子源引出
质量分析入口束流…
07
质量分析磁铁的磁场设计与均匀性
目标=磁极形状 · 气隙 · 磁路
质量分析磁铁的磁…
均匀性
08
磁铁电源与电流控制基础
目标=电流源拓扑 · 纹波 · 稳定度
磁铁电源
电流控制基础
09
磁场测量与标定
目标=霍尔探头 · 核磁共振 · 感应线圈
磁场测量
标定
10
质量分析磁铁的束流光学计算
目标=传输矩阵 · 色散函数 · 质量色散
质量分析磁铁的束…
目标=传输矩阵
11
束流选择狭缝与质量谱形成
目标=狭缝几何 · 位置 · 宽度
束流选择狭缝
质量谱形成
12
质量分析系统的真空与束流损失
目标=真空度 · 残余气体散射 · 电荷交换
质量分析系统的真…
束流损失
13
质量分析磁铁的安装、准直与机械稳定
目标=磁铁基准 · 束流线准直 · 狭缝对中
质量分析磁铁的安…
准直
14
束流诊断与质量分析反馈
目标=法拉第杯 · 束流变压器 · 剖面探测器
束流诊断
质量分析反馈
15
质量分析磁铁的扫描与切换控制
目标=质量数切换 · 磁场扫描 · 电流斜坡
质量分析磁铁的扫…
切换控制
16
束流选择中的同位素与多电荷态分离
目标=同位素丰度 · 多电荷态离子 · 分子离子
束流选择
同位素
17
质量分析磁铁的非线性与像差校正
目标=二阶像差 · 色差 · 几何像差
质量分析磁铁的非…
像差校正
18
空间电荷效应对质量分析与束流选择的影响
目标=低能大束流下的空间电荷 · 束流膨胀 · 发射度增长
空间电荷效应对质…
束流选择的影响
19
质量分析磁铁的热管理与稳定性
目标=线圈发热 · 磁铁温升 · 冷却水路
质量分析磁铁的热…
稳定性
20
磁铁控制系统的硬件架构
目标=控制器 · DAC/ADC · 传感器
磁铁控制系统的硬…
目标=控制器
21
磁铁控制算法与闭环调节
目标=PID · 前馈 · 串级控制
磁铁控制算法
闭环调节
22
质量分析系统的校准与日常维护
目标=质量刻度校准 · 分辨率验证 · 狭缝校准
质量分析系统的校…
日常维护
23
束流选择配方与工艺窗口
目标=不同离子种类与能量下的质量分析… · 狭缝设置 · 磁场设定
束流选择配方
工艺窗口
24
质量分析中的污染与交叉污染控制
目标=记忆效应 · 离子源残留 · 质量峰重叠
质量分析
污染
25
高精度质量分析磁铁的工程案例
目标=半导体大束流注入机质量分析系统… · 磁场均匀性优化 · 束流选择狭缝自动调节与产能提升
高精度质量分析磁…
目标=半导体大束…
26
质量分析与束流选择的故障排查
目标=质量峰偏移 · 分辨率下降 · 束流损失
质量分析
束流选择的故障排…
27
磁铁控制与质量分析的自动化集成
目标=配方管理 · 自动调束 · 质量峰自动识别
磁铁控制
质量分析的自动化…
28
质量分析磁铁的安全与联锁
目标=过流 · 过温 · 冷却故障
质量分析磁铁的安…
联锁
29
质量分析、束流选择与磁铁控制的性能评估
目标=分辨率 · 传输效率 · 稳定性
质量分析
束流选择
30
综合实战
目标=从工艺需求到质量分析磁铁控制方… · 能量 · 剂量
综合实战
目标=从工艺需求…
所属VIP或分类
同VIP:半导体离子注入设备真空系统与束流传输调试实践指南
同VIP:半导体离子注入设备调试与工艺参数匹配实战进阶
同VIP:离子注入剂量控制:沟道效应与退火工艺协同优化