2. 量子硬件性能评估指标体系

评估一台量子计算机,不能只看“有多少个量子比特”。比特数是规模指标,而真正决定它能否跑出有价值结果的是质量指标与系统指标的组合。本节把常用核心指标拆成三层来理解:器件层(保真度、相干时间、门速度、读出效率)、系统层(连通性、可扩展性)、综合层(量子体积、CLOPS)。理解它们的定义、测量口径与适用边界,并看清彼此之间的耦合关系,是后续多路线对比与选型的语言基础。

器件层:单点质量指标

保真度(Fidelity)衡量实际操作与理想操作的接近程度。它必须带口径:是单比特门、两比特门还是读出?是随机基准测试(RB)得到的平均门保真度,还是交叉熵基准(XEB)得到的电路级保真度?以两比特门为例,若单次门保真度 F=99.5%,则执行 20 层两比特门的电路,粗略估计整体保真度约为 0.995²⁰≈90.5%——这就是“单点指标好、电路一深就崩”的根源。因此保真度必须与门深度一起看。

相干时间包含 T1(能量弛豫)与 T2(相位退相干)。它决定了电路在退相干前能执行多久。若 T2=100 μs,两比特门时长 200 ns,则理论上限约 500 个门时间;但实际可用深度还要扣除门保真度累积误差,通常远小于该上限。相干时间与门速度的比值(门数预算)比单独看 T2 更有工程意义。

门速度指单比特门与两比特门的执行时长。超导两比特门约 20–200 ns,离子阱约 10–100 μs,中性原子约百 ns 到 μs 级。门越快,同样 T2 下可容纳的门数越多,但往往伴随串扰与控制精度下降,需与保真度联合权衡。

读出效率指测量时正确区分 |0⟩ 与 |1⟩ 的概率,常用读出保真度或混淆矩阵描述。读出错误会直接污染结果统计,且无法通过增加采样次数消除,只能通过校准或读出纠错缓解。

系统层:连接与扩展

连通性描述哪些比特对之间可以直接执行两比特门。超导常见的是近邻耦合(网格或重六边形拓扑),离子阱与中性原子常具备全连接或可重构连接。连通性差意味着需要 SWAP 网络把远端比特“搬”到一起,每个 SWAP 由 3 个 CNOT 构成,会显著放大门数与误差。因此评估时必须区分“物理连通性”与“编译后有效连通性”。

可扩展性不是单一数值,而是“比特数增加时,保真度、串扰、制冷/控制布线、校准开销能否维持”的综合判断。它决定了指标是停留在实验室演示,还是能走向更大规模。

综合层:量子体积与 CLOPS

量子体积(Quantum Volume, QV)用一个方形随机电路测试:宽度为 n 比特、深度为 n 层,若成功概率超过 2/3,则 QV=2ⁿ。它同时考察比特数、保真度、连通性与编译质量,是一个“木桶效应”指标——任何一项短板都会压低 QV。例如 QV=2⁵=32 表示 5 比特、5 层电路可稳定通过。

CLOPS(Circuit Layer Operations Per Second)衡量单位时间能执行多少电路层,反映“吞吐”而非“质量”。它由 QV 电路规模、单次执行时间与采样次数共同决定。QV 高但 CLOPS 低,说明质量好但速度慢;两者需并列报告。

指标耦合的核心逻辑:相干时间与门速度共同决定“可执行门数预算”;门保真度决定每层误差累积;连通性决定编译后实际门数;读出效率决定结果可信度;这些共同决定 QV;QV 与执行时间共同决定 CLOPS。任何单点指标都不能脱离其他指标单独解读。

量子硬件性能评估指标体系与耦合关系 器件层 · 单点质量 保真度 F 1Q / 2Q / 读出 RB / XEB 口径 相干时间 T1 / T2 能量弛豫 / 相位退相干 决定门数预算 门速度 1Q / 2Q 门时长 与 T2 联合权衡 读出效率 读出保真度 / 混淆矩阵 污染结果统计 系统层 · 连接与扩展 连通性 近邻耦合 / 全连接 / 可重构 · 影响 SWAP 开销 可扩展性 比特增加时保真度 / 串扰 / 校准开销能否维持 综合层 · 系统级结果 量子体积 QV = 2ⁿ 方形随机电路 · 成功概率 > 2/3 · 木桶效应 CLOPS 电路层 / 秒 · 吞吐指标 · 与 QV 并列报告 耦合链:T2 × 门速度 → 门数预算;门保真度 → 每层误差累积;连通性 → 编译后门数;读出效率 → 结果可信度 → 共同决定 QV → QV 与执行时间决定 CLOPS 单点指标不可孤立解读,须与门深度、编译开销、采样次数联合评估

测量口径与适用边界

同一名称的指标在不同口径下不可直接比较。例如“两比特门保真度 99.9%”若来自 RB,是平均门保真度;若来自 XEB,则更接近电路级表现。相干时间也分 T2(Ramsey)与 T2*(含非均匀展宽),后者通常更短。QV 的适用边界是:它适合比较“能跑多深多宽的随机电路”,但不直接反映特定算法(如 QAOA、VQE)的实际性能。CLOPS 则受采样策略影响,不同厂商的统计方式可能不同,比较时需确认口径。

工程示例:用指标估算可用电路深度

假设某超导平台参数为:T2=80 μs,两比特门时长 250 ns,两比特门保真度 99.4%,读出保真度 98.5%。先算门数预算:80 μs / 250 ns ≈ 320 个门时间,但受保真度限制,若要求整体保真度不低于 70%,则 0.994ⁿ ≥ 0.70,解得 n ≈ 59 层两比特门。再考虑连通性:若目标算法需要 10 个远端比特对交互,每个 SWAP 消耗 3 个 CNOT,额外增加约 30 层门,实际可用深度降至约 29 层。最后读出效率 98.5% 意味着每次测量约 1.5% 误判,若采样 10000 次,错误计数约 150 次,需通过读出校准或增加采样来抑制统计偏差。这个例子说明:指标必须联合使用,才能回答“这台机器能跑什么电路”。

评估建议:报告硬件性能时,至少同时给出比特数、两比特门保真度(注明口径)、T1/T2、连通性拓扑、QV 与 CLOPS。缺少任何一项,读者都无法判断该指标是否适用于自己的任务。

常见误区:把“比特数”当作性能排名依据;把不同口径的保真度直接比较;忽略连通性带来的编译开销;只看 QV 不看 CLOPS。这些都会导致选型误判。

掌握这些指标的定义、口径与耦合关系后,下一步才能针对超导、离子阱、中性原子、光子等不同路线,建立可比较的评估矩阵,并据此判断哪条路线更适合目标应用。