阵列天线原理:阵列因子、方向图乘积原理、均匀线性阵列

3.1 从单元天线到阵列:方向图乘积原理

单个辐射单元的方向图是有限的,例如半波偶极子在H面是全向的,无法形成定向波束。将多个单元按一定规律排列,并控制各单元的激励幅度与相位,就能合成出所需的波束形状与扫描能力。阵列天线的核心分析工具是方向图乘积原理:阵列总方向图等于单元方向图与阵列因子的乘积。

方向图乘积原理(数学表达)

F_total(θ, φ) = F_element(θ, φ) × AF(θ, φ)

其中:
F_total    —— 阵列总方向图(电场幅度方向图)
F_element  —— 单元方向图(含单元自身的方向性)
AF         —— 阵列因子(仅取决于阵列几何与激励)

这一原理成立的前提是:阵列中各单元相同、互耦可忽略或已校正、单元方向图在阵列环境中保持一致。工程中,互耦较强时需通过全波仿真修正,但概念上仍以乘积原理作为第一阶近似。

方向图乘积原理示意 单元方向图 F_element(θ) 半波偶极子示例 × 阵列因子 AF(θ) = Σ aₙ·e^(jkd·n·cosθ) N=8, d=0.5λ 的AF = 阵列总方向图 F_total(θ) 主瓣 + 旁瓣

图中展示了单元方向图(宽波束)与阵列因子(梳状多瓣)相乘后,得到总方向图的过程。阵列因子的主瓣“提取”了单元方向图中的对应区域,而栅瓣若落入单元方向图旁瓣区则被抑制,若落入主瓣区则形成不期望的栅瓣。

3.2 均匀线性阵列(ULA)的阵列因子推导

均匀线性阵列是最基础的阵列构型:N个相同单元沿直线等间距d排列,各单元激励幅度相同,相位按等差递增。设第n个单元相对第0个单元的相位为 n·α,则阵列因子为:

AF(θ) = Σ_{n=0}^{N-1} e^{jn(kd·cosθ + α)}

令 ψ = kd·cosθ + α,则:
AF(ψ) = Σ_{n=0}^{N-1} e^{jnψ} = e^{j(N-1)ψ/2} · [sin(Nψ/2) / sin(ψ/2)]

幅度方向图取模后为 |AF(ψ)| = |sin(Nψ/2) / sin(ψ/2)|。当 ψ = 0 时取得最大值 N,对应波束指向满足:

波束指向条件

cosθ₀ = -α / (kd)   →   α = -kd·cosθ₀

若采用相移 α = -kd·sinθ₀(以阵列法线为0°),则波束指向 θ₀。
工程中常用移相器实现 α,扫描角 θ₀ 与 α 一一对应。

均匀线性阵列的关键参数包括:

  • 阵元间距 d:决定栅瓣出现条件,通常取 d ≤ λ/2 以避免栅瓣进入可见区。
  • 阵元数 N:决定主瓣宽度,N越大波束越窄。
  • 扫描角 θ₀:主瓣偏离法线的角度,扫描角增大时波束展宽、增益下降。
  • 激励相位 α:相邻单元间的相位差,控制波束指向。

3.3 阵列方向图的计算流程与案例

计算均匀线性阵列方向图的典型流程如下:

  1. 确定阵列参数:N、d、工作频率 f(或波长 λ)、扫描角 θ₀。
  2. 计算相邻单元相位差:α = -kd·sinθ₀,其中 k = 2π/λ。
  3. 计算阵列因子:对 θ 从 -90° 到 90° 扫描,按公式计算 |AF(θ)|。
  4. 乘以单元方向图:若单元为理想各向同性,则总方向图即 AF;若为实际单元,则乘以 F_element(θ)。
  5. 归一化与绘图:以最大值归一化,绘制极坐标或直角坐标方向图。

案例:8元均匀线性阵列,d = 0.5λ,扫描角 θ₀ = 30°

参数 数值 说明
阵元数 N 8 单元数越多,波束越窄
阵元间距 d 0.5λ 无栅瓣条件 d ≤ λ/2
扫描角 θ₀ 30° 相对法线方向
相邻相位差 α -π·sin30° = -90° α = -kd·sinθ₀
主瓣宽度 (HPBW) 约 12.8° 近似 0.886λ/(Nd·cosθ₀)
第一旁瓣电平 -13.46 dB 均匀激励的固有旁瓣

该阵列在 θ = 30° 方向形成主瓣,在 θ = -90° 附近可能出现栅瓣(因 d = 0.5λ 时栅瓣恰好位于端射方向边缘,实际中需结合单元方向图判断是否可见)。

3.4 常见误区与工程复盘

误区一:认为阵列因子与单元方向图可以独立无限优化

方向图乘积原理虽然将两者分离,但单元方向图在阵列中会因互耦而畸变。尤其在宽角扫描时,单元方向图在低仰角区域的增益下降会直接压低阵列总方向图的旁瓣或主瓣,导致扫描损耗。工程中需用全波仿真验证,不能只依赖理想乘积公式。

误区二:忽视栅瓣的“可见区”判断

栅瓣出现在 ψ = ±2mπ 处,但只有当栅瓣对应的 θ 在 -90°~90° 范围内(可见区)才会形成真实辐射。例如 d = 1λ 时,栅瓣在 θ = 0° 和 θ = ±90° 均可能出现,若单元方向图在端射方向有较大响应,栅瓣将造成严重的方向模糊。

工程复盘要点

  • 设计时先确定最大扫描角 θ_max,再由 d ≤ λ/(1+|sinθ_max|) 选择阵元间距,确保全扫描范围内无栅瓣。
  • 均匀激励的旁瓣电平固定为 -13.46 dB,若需更低旁瓣,需采用泰勒加权、切比雪夫加权等幅度锥削方案,但主瓣会相应展宽。
  • 扫描角增大时,主瓣宽度按 1/cosθ₀ 展宽,增益按 cosθ₀ 下降,这是阵列口径投影面积减小的物理必然。
  • 实际移相器位数有限(如6位,步进5.625°),量化相位误差会抬高旁瓣,需在系统预算中预留余量。

均匀线性阵列是理解相控阵的基础,其阵列因子公式、栅瓣条件和扫描规律直接推广到平面阵列和共形阵列。掌握方向图乘积原理,就能将复杂的阵列分析拆解为“单元设计”与“阵列综合”两个相对独立的环节,这也是工程中阵列天线设计的核心方法论。