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014-先进涂层与表面工程
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《磁控溅射薄膜涂层工艺实战》
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涂层工艺 · 共 20 门相关课程,组合学习更完整。
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📘
磁控溅射薄膜涂层工艺实战
共计 30 章节
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01
课程导入与工艺全景
目标=磁控溅射在薄膜涂层中的定位 · 典型应用场景 · 课程实战目标与学习路径
课程导入
工艺全景
02
真空系统搭建与检漏实战
目标=真空获得 · 真空测量 · 抽气曲线
真空系统搭建
检漏实战
03
溅射靶材选型与安装
目标=靶材材质 · 纯度 · 尺寸
溅射靶材选型
安装
04
基片清洗与前处理工艺
目标=超声清洗 · 等离子清洗 · 表面活化
基片清洗
前处理工艺
05
磁控溅射电源匹配与调试
目标=直流 · 脉冲直流 · 射频
磁控溅射电源匹配
调试
06
工作气体与反应气体控制
目标=氩气 · 氧气 · 氮气等气体流量
工作气体
反应气体控制
07
溅射工艺参数窗口建立
目标=功率密度 · 工作气压 · 靶基距
溅射工艺参数窗口…
目标=功率密度
08
薄膜厚度均匀性控制实战
目标=旋转基片 · 挡板设计 · 磁场分布
薄膜厚度均匀性控…
目标=旋转基片
09
金属薄膜沉积工艺实战
目标=铜 · 铝 · 钛
金属薄膜沉积工艺…
目标=铜
10
反应磁控溅射氧化物薄膜
目标=TiO2 · ZnO · ITO等氧化物膜的迟滞效应
反应磁控溅射氧化…
TiO2
11
反应磁控溅射氮化物薄膜
目标=TiN · CrN · AlTiN等硬质涂层的气体配比
反应磁控溅射氮化…
TiN
12
透明导电薄膜制备实战
目标=ITO · AZO薄膜的电阻率 · 透光率
透明导电薄膜制备…
ITO
13
磁性薄膜溅射工艺
目标=Ni · Fe · Co及其合金薄膜的靶材磁场干扰
磁性薄膜溅射工艺
Ni
14
合金与化合物薄膜共溅射
目标=多靶共溅射 · 合金靶溅射 · 成分控制与薄膜成分均匀性分析
合金
化合物薄膜共溅射
15
薄膜附着力提升实战
目标=过渡层 · 梯度层 · 离子轰击
薄膜附着力提升实…
目标=过渡层
16
薄膜应力控制与调控
目标=本征应力 · 热应力来源 · 工艺参数对应力影响与应力测试及退火调…
薄膜应力控制
调控
17
薄膜微观结构调控
目标=柱状晶 · 致密层 · 非晶态的形成条件
薄膜微观结构调控
目标=柱状晶
18
薄膜光学性能测试与工艺反馈
目标=折射率 · 消光系数 · 膜厚拟合
薄膜光学性能测试
工艺反馈
19
薄膜电学性能测试与工艺反馈
目标=方块电阻 · 电阻率 · 载流子浓度
薄膜电学性能测试
工艺反馈
20
薄膜机械性能测试与工艺反馈
目标=硬度 · 弹性模量 · 耐磨性
薄膜机械性能测试
工艺反馈
21
大面积与批量镀膜均匀性实战
目标=多靶排布 · 基片公转/自转 · 挡板修正与工业化镀膜均匀性调试
大面积
批量镀膜均匀性实…
22
柔性基底卷绕镀膜工艺
目标=柔性PI · PET基底预处理 · 低温沉积
柔性基底卷绕镀膜…
PI
23
工件表面涂层实战
目标=刀具 · 模具 · 零部件前处理
工件表面涂层实战
目标=刀具
24
光学多层膜设计与溅射实现
目标=高反膜 · 减反膜 · 滤光膜的设计软件
光学多层膜设计
溅射实现
25
溅射工艺异常诊断与排除
目标=靶面异常 · 打弧 · 颗粒污染
溅射工艺异常诊断
排除
26
薄膜厚度与成分在线监控
目标=石英晶振 · 光谱监控 · 质谱监控与闭环控制策略
薄膜厚度
成分
27
溅射设备维护与保养实战
目标=靶材寿命管理 · 腔体清洁 · 密封件更换
溅射设备维护
保养实战
28
工艺重复性与良率提升
目标=工艺参数标准化 · SPC控制 · 批次一致性分析与良率改善案例
工艺重复性
良率提升
29
新型磁控溅射技术实战
目标=高功率脉冲磁控溅射 · 深振荡磁控溅射 · 闭合场非平衡磁控溅射应用
新型磁控溅射技术…
目标=高功率脉冲…
30
综合实战项目
目标=从需求到交付——设计并实施一套… · 完成表征 · 优化与报告
综合实战项目
目标=从需求到交…
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