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半导体工艺与制造设备
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033-半导体良率提升
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《良率模型:良率模型参数校准与工艺偏差修正实战》
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良率模型:良率模型参数校准与工艺偏差修正实战
共计 30 章节
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01
良率模型概述
良率定义 · 良率模型在半导体制造中的重要性 · 常见良率模型分类(泊松模型
良率模型概述
良率定义
02
工艺偏差基础
工艺偏差的来源(光刻 · 刻蚀 · 沉积)
工艺偏差基础
工艺偏差的来源
03
关键工艺参数识别
关键尺寸(CD) · 薄膜厚度 · 掺杂浓度
关键工艺参数识别
CD
04
数据采集与预处理
良率数据与工艺参数数据的采集规范 · 数据清洗(缺失值 · 异常值处理)
数据采集
预处理
05
良率模型数学基础
概率论与数理统计回顾 · 最大似然估计(MLE) · 贝叶斯推断在模型校准中的应用
良率模型数学基础
概率论
06
泊松良率模型
泊松分布假设 · 模型公式推导 · 适用场景(随机缺陷主导)
泊松良率模型
泊松分布假设
07
负二项良率模型
负二项分布假设 · 聚集因子(聚类参数)的引入 · 模型公式推导
负二项良率模型
负二项分布假设
08
复合良率模型
多缺陷类型叠加 · 混合模型构建 · 权重参数估计
复合良率模型
多缺陷类型叠加
09
模型参数校准方法
最小二乘法 · 加权最小二乘法 · 非线性优化算法(梯度下降
模型参数校准方法
最小二乘法
10
最大似然估计校准
似然函数构建 · 对数似然函数优化 · 梯度计算与迭代求解
最大似然估计校准
似然函数构建
11
贝叶斯参数校准
先验分布设定 · 后验分布计算 · 马尔可夫链蒙特卡洛(MCMC)方法
贝叶斯参数校准
先验分布设定
12
工艺偏差修正原理
偏差修正的必要性 · 修正策略(前馈修正 · 反馈修正)
工艺偏差修正原理
偏差修正的必要性
13
偏差修正模型构建
偏差与良率的关联函数 · 线性修正模型 · 非线性修正模型
偏差修正模型构建
偏差
14
虚拟量测与良率预测
虚拟量测技术原理 · 基于工艺参数的良率预测模型 · 预测精度评估指标(RMSE
虚拟量测
良率预测
15
多变量良率模型
主成分分析(PCA)降维 · 多元线性回归 · 偏最小二乘回归(PLSR)在高维参数…
多变量良率模型
PCA
16
时间序列良率模型
工艺漂移检测 · 时间序列分解(趋势 · 季节
时间序列良率模型
工艺漂移检测
17
机器学习良率模型
随机森林 · 支持向量机(SVM) · 神经网络在良率建模中的应用
机器学习良率模型
随机森林
18
深度学习良率模型
卷积神经网络(CNN)用于晶圆图缺陷… · 长短期记忆网络(LSTM)用于时序良…
深度学习良率模型
CNN
19
模型过拟合与正则化
过拟合现象识别 · L1/L2正则化 · Dropout技术
模型过拟合
正则化
20
模型评估与诊断
残差分析 · Q-Q图 · 拟合优度指标(R²
模型评估
诊断
21
工艺偏差修正实战案例一
光刻工艺偏差修正——聚焦深度与曝光剂…
工艺偏差修正实战…
光刻工艺偏差修正
22
工艺偏差修正实战案例二
刻蚀工艺偏差修正——刻蚀速率均匀性对…
工艺偏差修正实战…
刻蚀工艺偏差修正
23
工艺偏差修正实战案例三
薄膜沉积偏差修正——膜厚均匀性对器件…
工艺偏差修正实战…
薄膜沉积偏差修正
24
良率模型校准实战案例一
基于历史数据的泊松模型参数校准与验证
良率模型校准实战…
基于历史数据的泊…
25
良率模型校准实战案例二
基于贝叶斯方法的负二项模型参数校准与…
良率模型校准实战…
基于贝叶斯方法的…
26
良率模型校准实战案例三
复合模型参数校准与多目标优化
良率模型校准实战…
复合模型参数校准
27
良率模型软件工具
Python(scipy · statsmodels · pymc3)
良率模型软件工具
Python
28
良率模型自动化部署
模型管道构建 · 实时数据接入 · 模型更新策略
良率模型自动化部…
模型管道构建
29
良率模型与工艺控制集成
统计过程控制(SPC)与良率模型联动 · 先进过程控制(APC)中的模型应用
良率模型
工艺控制集成
30
课程总结与未来展望
良率模型发展趋势(数字孪生 · AI驱动) · 持续学习建议
课程总结
未来展望
所属VIP或分类
同VIP:半导体良率提升与缺陷分析实战图文详解
同VIP:良率优化:良率优化方案在工艺窗口拓展中的参数调优
同VIP:良率基线:成熟工艺良率基线建立与迁移方法实战