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半导体工艺与制造设备
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033-半导体良率提升
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《良率优化:良率优化方案在工艺窗口拓展中的参数调优》
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良率优化:良率优化方案在工艺窗口拓展中的参数调优
共计 30 章节
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01
良率基础概念
良率定义 · 晶圆良率与封装良率 · 良率损失分类(系统性与随机性)
良率基础概念
良率定义
02
工艺窗口概述
工艺窗口定义 · Cpk与Ppk指标 · 窗口中心化与对称性
工艺窗口概述
工艺窗口定义
03
参数调优核心思想
DOE(实验设计)简介 · 响应曲面法 · 参数灵敏度分析
参数调优核心思想
DOE
04
关键工艺参数识别
FMEA(失效模式与影响分析) · 帕累托图 · 相关性矩阵
关键工艺参数识别
FMEA
05
数据采集与预处理
数据清洗 · 异常值处理 · 缺失值插补
数据采集
预处理
06
单变量参数调优
目标值设定 · 规格界限计算 · 单因子方差分析
单变量参数调优
目标值设定
07
多变量参数调优
全因子实验 · 部分因子实验 · 混料设计
多变量参数调优
全因子实验
08
响应曲面建模
二阶模型拟合 · 等高线图 · 最陡爬坡路径
响应曲面建模
二阶模型拟合
09
工艺窗口边界探索
Monte Carlo模拟 · 窗口边界应力测试 · 失效边界定义
工艺窗口边界探索
Monte
10
参数容差设计
容差分配 · 最坏情况分析 · 统计容差叠加
参数容差设计
容差分配
11
稳健性优化
田口方法 · 信噪比 · 稳健参数设计
稳健性优化
田口方法
12
机器学习辅助调优
回归模型 · 决策树 · 随机森林在参数优化中的应用
机器学习辅助调优
回归模型
13
贝叶斯优化
高斯过程代理模型 · 采集函数 · 超参数调优
贝叶斯优化
高斯过程代理模型
14
多目标优化
Pareto前沿 · 加权和法 · NSGA-II算法简介
多目标优化
Pareto
15
工艺漂移检测
SPC控制图 · EWMA · CUSUM
工艺漂移检测
SPC
16
虚拟量测与预测
虚拟量测模型构建 · 实时预测 · 置信区间
虚拟量测
预测
17
参数调优中的噪声抑制
噪声因子识别 · 噪声实验 · 信号因子设计
参数调优
噪声抑制
18
工艺窗口转移策略
设备匹配 · 腔室匹配 · 跨世代工艺转移
工艺窗口转移策略
设备匹配
19
参数调优自动化
闭环反馈系统 · R2R控制 · APC系统架构
参数调优自动化
闭环反馈系统
20
高维参数降维
主成分分析 · 因子分析 · 特征选择
高维参数降维
主成分分析
21
时间序列参数调优
时序相关性 · 滑动窗口优化 · 动态参数调整
时间序列参数调优
时序相关性
22
空间均匀性优化
晶圆内均匀性 · 批次间均匀性 · 补偿算法
空间均匀性优化
晶圆内均匀性
23
缺陷与参数关联分析
缺陷分类 · 参数-缺陷相关性 · 根因定位
缺陷
参数关联分析
24
参数调优中的成本约束
成本函数定义 · 良率-成本权衡 · 经济窗口
参数调优
成本约束
25
先进节点挑战
FinFET/GAA工艺窗口 · EUV光刻参数 · 极薄栅氧
先进节点挑战
FinFET/GAA
26
参数调优案例
CMP平坦化参数优化 · 刻蚀速率均匀性调优
参数调优案例
CMP
27
参数调优案例
光刻聚焦/曝光矩阵优化 · 薄膜应力控制
参数调优案例
光刻聚焦
28
参数调优软件工具
JMP · Minitab · Python(pyDOE
参数调优软件工具
JMP
29
良率优化团队协作
跨部门沟通 · 数据共享 · 标准化报告
良率优化团队协作
跨部门沟通
30
课程总结与未来趋势
AI驱动工艺优化 · 数字孪生 · 自优化工厂
课程总结
未来趋势
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