首页
›
半导体工艺与制造设备
›
005-半导体器件物理
›
《MOSFET沟道长度调制效应与I-V特性提取》
VIP20
本课程属于:005-半导体器件物理
半导体工艺与制造设备 · 共 20 门相关课程,组合学习更完整。
查看所属VIP全部课程 →
← 返回所属目录
咨询 / 购买
MOSFET沟道长度调制效应与I-V特性提取
共计 30 章节
点击此处阅读海量试读课程:100+行业、1000+细分领域
01
MOSFET基础回顾
MOSFET结构 · 工作原理 · 阈值电压
MOSFET
基础回顾
02
理想MOSFET I-V特性
长沟道近似 · 萨支唐方程 · 线性区与饱和区电流公式推导
MOSFET
I-V
03
沟道长度调制效应引入
物理起源 · 耗尽区扩展 · 有效沟道长度缩短
沟道长度调制效应…
物理起源
04
沟道长度调制参数λ
定义 · 物理意义 · 对输出特性的影响
沟道长度调制参数…
定义
05
考虑CLM的I-V模型
饱和区电流修正公式 · Early电压概念
CLM
I-V
06
Early电压VA
定义 · 与λ的关系 · 物理意义
Early
VA
07
CLM对输出电阻的影响
输出电阻定义 · CLM导致有限输出电阻 · ro与λ的关系
CLM
对输出电阻的影响
08
CLM对跨导gm的影响
跨导定义 · CLM对gm的修正 · gm与λ的关系
CLM
gm
09
CLM对本征增益的影响
本征增益Av=gm*ro · CLM对增益的制约
CLM
对本征增益的影响
10
CLM与器件尺寸关系
沟道长度L对λ的影响 · 短沟道效应加剧CLM
CLM
器件尺寸关系
11
CLM与偏置条件关系
漏源电压VDS对λ的影响 · VDS增大导致CLM增强
CLM
偏置条件关系
12
CLM与掺杂浓度关系
衬底掺杂浓度对耗尽区宽度的影响 · 对λ的间接影响
CLM
掺杂浓度关系
13
CLM与温度关系
温度对载流子迁移率 · 饱和速度的影响 · 对λ的温度依赖性
CLM
温度关系
14
I-V特性曲线测量原理
半导体参数分析仪 · SMU · 四线法测量
I-V
特性曲线测量原理
15
输出特性曲线提取
ID-VDS扫描 · 不同VGS下的曲线族 · 饱和区斜率提取
输出特性曲线提取
ID-VDS
16
转移特性曲线提取
ID-VGS扫描 · 线性区与饱和区转移曲线 · 跨导提取
转移特性曲线提取
ID-VGS
17
线性区I-V特性提取
小VDS下的ID-VDS · 线性区电阻Rds(on)提取
I-V
线性区
18
饱和区I-V特性提取
大VDS下的ID-VDS · 饱和电流IDsat提取
I-V
特性提取
19
阈值电压Vth提取方法
线性外推法 · 常数电流法 · 二阶导数法
Vth
阈值电压
20
跨导gm提取方法
转移曲线斜率 · 最大跨导 · 跨导效率gm/ID
gm
跨导
21
输出电阻ro提取方法
输出曲线斜率倒数 · 小信号等效电路 · AC测量
ro
输出电阻
22
沟道长度调制参数λ提取方法
饱和区ID-VDS曲线拟合 · 1/ID vs VDS线性回归
沟道长度调制参数…
ID-VDS
23
Early电压VA提取方法
输出曲线反向延长线与VDS轴交点 · 线性回归法
Early
VA
24
参数提取误差分析
测量噪声 · 接触电阻 · 自热效应
参数提取误差分析
测量噪声
25
自热效应与CLM区分
自热导致电流下降 · CLM导致电流上升 · 解耦方法
CLM
自热效应
26
短沟道效应与CLM耦合
速度饱和 · DIBL · 热载流子效应与CLM的相互作用
CLM
短沟道效应
27
BSIM模型中的CLM建模
BSIM4中的CLM参数 · PCLM · DROUT等模型参数
BSIM
CLM
28
TCAD仿真验证CLM
Sentaurus/ATLAS仿真设… · 沟道电场分布 · 耗尽区可视化
TCAD
CLM
29
Python自动化提取脚本
读取测量数据 · 线性回归拟合λ · 可视化I-V曲线
Python
自动化提取脚本
30
课程总结与工程应用
CLM对模拟电路设计的影响 · 共源极放大器增益 · 电流镜精度
课程总结
工程应用
所属VIP或分类
同VIP:BJT发射极注入效率与能带图:器件物理参数提取实战
同VIP:BJT基区电阻对I-V特性的影响:器件物理参数优化
同VIP:BJT能带图与载流子输运路径:器件物理参数提取