2. 温室传感器选型与布点方案设计
从温室结构推导布点约束
传感器布点不是“均匀撒点”,而是先由温室几何与气流组织确定代表性测点。本例设定一座南北走向文洛式玻璃温室:跨度 9.6 m × 4 跨 = 38.4 m,开间 4 m × 12 间 = 48 m,肩高 4.0 m,脊高 5.8 m,总面积约 1843 m²。作物为高秧番茄,冠层高度 2.2 m,采用东西向栽培垄、南北向作业道。顶部天窗沿脊两侧开启,湿帘位于北端山墙,风机位于南端山墙,形成北→南纵向气流。
由此得到三条硬约束:其一,纵向气流使南北两端存在明显温湿度梯度,测点必须覆盖“进风端—中段—排风端”;其二,冠层高度 2.2 m 意味着温度与湿度必须区分冠层内与冠层上方两个高度层,否则控制算法会误判作物实际感受;其三,CO₂ 施肥口靠近冠层且密度大于空气,测点应置于冠层中部而非屋面附近。
选型:按环境因子匹配量程、精度与防护
选型不是追求最高精度,而是让测量不确定度小于控制死区的 1/3。本例控制目标为温度 22–26 ℃、相对湿度 65%–80%、CO₂ 800–1000 ppm、光照 300–600 W/m²(以 DLI 折算)。据此确定选型参数表:
| 因子 | 推荐类型 | 量程 | 精度/分辨率 | 防护与安装要点 |
|---|---|---|---|---|
| 温度 | 铂电阻 PT1000(四线制) | -20~60 ℃ | ±0.2 ℃,0.01 ℃ | 加装辐射屏蔽罩,避免阳光直射与屋面热辐射 |
| 湿度 | 电容式高分子湿度探头 | 0~100 %RH | ±2 %RH | 配烧结不锈钢滤芯,防结露与喷淋水雾 |
| CO₂ | NDIR 非色散红外 | 0~3000 ppm | ±(30 ppm+3%读数) | 需温压补偿,进气口加防尘棉,避免靠近施肥口 |
| 光照 | 硅光电二极管 PAR 传感器 | 0~2500 μmol/(m²·s) | ±5% | 水平安装于冠层顶,定期清洁,避免遮阳网遮挡 |
关键取舍:PT1000 优于 DS18B20 的原因在于长期漂移小、四线制消除引线电阻;CO₂ 传感器必须选带温压补偿的 NDIR 型,因为温室昼夜温差可达 15 ℃,未补偿时读数偏差可达 40 ppm 以上,足以让施肥阀误动作。
布点数量与位置计算
按“每 500 m² 至少 1 个温湿度测点、且覆盖进风端/中段/排风端”的原则,1843 m² 需 4 个以上测点;考虑纵向梯度显著,本例取6 个温湿度测点(3 个纵向位置 × 2 个高度层)。CO₂ 取 2 点(中段与排风端),光照取 2 点(东西两侧对照,用于判断遮阳网均匀性)。
高度层定义:下层 = 冠层中部 1.2 m(代表作物叶片实际感受),上层 = 冠层顶上方 0.3 m,即 2.5 m(代表冠层上方空气,用于通风控制)。平面位置沿南北方向按 1/6、1/2、5/6 布置,避开湿帘正前方 2 m 与风机正后方 2 m 的强扰动区。
布点对控制精度的影响:用梯度数据说明
假设某晴天 13:00 实测(示例数据,用于说明梯度量级):进风端上层 24.8 ℃、中段上层 26.1 ℃、排风端上层 27.6 ℃,纵向温差达 2.8 ℃;冠层内下层比同位置上层低 1.5~2.0 ℃。若只在中段布 1 个测点,控制算法会把 26.1 ℃ 当作全棚温度,此时排风端已接近 27.6 ℃,超过 26 ℃ 上限却不会触发降温,作物在排风端出现胁迫。
反之,若把测点全部布置在排风端,则进风端会被过度降温,造成能源浪费与冷害风险。正确做法是取多点中位值或按区域加权:控制用温度 = 0.25×进风端 + 0.5×中段 + 0.25×排风端,权重体现面积占比。湿度控制同理,但湿度对局部扰动更敏感,建议取中段两点均值并设置 3 %RH 的死区,避免阀门频繁动作。
CO₂ 布点影响更直接:施肥口附近浓度可能比冠层中部高 200 ppm 以上。若传感器靠近施肥口,控制系统会提前关闭阀门,导致冠层实际浓度不足。将 C1 置于中段冠层中部、C2 置于排风端,可同时反映施肥均匀性与泄漏损失。
方案落地检查表
| 检查项 | 判定标准 | 不通过时的处理 |
|---|---|---|
| 测点覆盖 | 进风端、中段、排风端各有测点 | 补点或调整纵向位置 |
| 高度层 | 冠层内与冠层上方均有温度测点 | 增加下层支架 |
| 避让距离 | 满足湿帘/风机/施肥口最小距离 | 平移测点并复测 |
| 辐射屏蔽 | 温度探头有屏蔽罩且非阳光直射 | 加装百叶罩 |
| 一致性校验 | 同层多点静置时偏差 ≤0.5 ℃、≤3 %RH | 校准或更换探头 |
| 线缆与地址 | 每点有唯一地址,线缆避开强电 | 重新编号、分开走线 |
完成布点后,应在无作物扰动时段(清晨开窗前的 30 min)记录各点静置读数,作为后续数据采集与清洗的基准;若同层偏差超限,先排查安装位置而非直接改控制参数。