4. 凝固热力学基础
增材制造熔池的凝固时间极短,冷却速率常达 10³~10⁶ K/s,凝固界面推进速度可达 0.1~10 m/s。在这种远离平衡的条件下,相图、溶质分配、界面稳定性和成分过冷共同决定了最终是柱状晶、等轴晶,还是出现胞状、枝晶乃至带状组织。理解这条热力学—动力学链条,是后续调控凝固组织的前提。
一、相图与溶质分配:从平衡到非平衡
相图给出的是平衡态下相与成分、温度的关系。以 Al-Si 为例,共晶温度约 577 ℃,共晶成分约 12.6 wt.% Si;当 Si 含量低于共晶点时,初生 α-Al 先析出,剩余液相富集 Si,最终在枝晶间形成共晶组织。增材制造中,由于冷却极快,实际凝固路径往往偏离平衡相图,出现溶质截留、扩展固溶度甚至亚稳相。
描述溶质再分配的核心参数是分配系数 k = Cs/Cl。k < 1 时,溶质倾向富集于液相,凝固界面排出溶质,在界面前沿形成富集层;k > 1 时则相反。平衡分配系数 k₀ 由相图液相线和固相线斜率决定,而有效分配系数 ke 还受界面推进速度与溶质扩散竞争影响。当凝固速度足够快,溶质来不及扩散,ke 会向 1 靠近,即发生溶质截留。
常用近似关系为:
k_e = k0 / [k0 + (1 - k0)·exp(-V·δ/D_l)]
其中:
V —— 固液界面推进速度 (m/s)
δ —— 界面扩散层厚度 (m)
D_l —— 液相溶质扩散系数 (m²/s)
k0 —— 平衡分配系数
以 Al-10Si 为例,k₀ ≈ 0.13,Dl ≈ 5×10⁻⁹ m²/s。若取 δ ≈ 5 μm,当 V = 0.01 m/s 时,ke 仍接近 0.13;当 V 提高到 1 m/s 时,ke 可升至约 0.5 以上,溶质截留显著。这说明增材制造高扫描速度下,成分偏析会被明显抑制,但同时也可能保留过饱和固溶体。
二、界面稳定性:平界面何时失稳
凝固界面并非总是平界面。当界面前沿存在溶质富集层时,实际液相线温度随距离变化,形成“成分过冷区”。若该区实际温度低于液相线温度,平界面就会失稳,转为胞状或枝晶。
判断平界面稳定性的经典判据是 Mullins-Sekerka 或成分过冷判据。简化形式为:
G_L / V ≥ -m_L · C0 · (1 - k0) / (k0 · D_l)
G_L —— 液相温度梯度 (K/m)
V —— 界面推进速度 (m/s)
m_L —— 液相线斜率 (K/wt.%)
C0 —— 合金原始成分 (wt.%)
k0 —— 平衡分配系数
D_l —— 液相扩散系数 (m²/s)
左侧 GL/V 越大,界面越稳定;右侧为合金固有参数。以 Al-10Si 为例,mL ≈ -6 K/wt.%,k₀ ≈ 0.13,Dl ≈ 5×10⁻⁹ m²/s,则右侧约为 8×10⁸ K·s/m²。若 GL = 10⁶ K/m,则 V 需低于约 1.25×10⁻³ m/s 才能维持平界面。增材制造中 V 常远高于此值,因此平界面几乎不可能稳定存在,胞状和枝晶是常态。
三、成分过冷与凝固模式选择
成分过冷区宽度决定了凝固模式。当 GL/V 很大时,成分过冷区很窄,界面保持平界面;随着 GL/V 减小,过冷区变宽,界面先失稳为胞状,再发展为柱状枝晶;当 GL/V 进一步降低,过冷区足够宽,液相内部可自发形核,形成等轴晶。
增材制造中,熔池底部 GL 高、V 低,常出现平界面或胞状晶;熔池中部 GL 降低、V 增大,柱状枝晶沿热流方向外延生长;熔池顶部 GL 低、V 高,且存在大量未熔粉末和氧化物作为异质形核质点,容易形成等轴晶。这种“底部柱状—中部柱状—顶部等轴”的分布是增材制造凝固组织的典型特征。
此外,扫描速度、激光功率、层厚和基板预热温度都会改变 GL 和 V。例如提高扫描速度,V 增大,GL/V 减小,柱状晶向等轴晶转变(CET)更容易发生;提高基板预热温度,GL 降低,同样促进 CET。实际调控时,可通过调整这些参数来获得目标组织。
四、从热力学到组织调控
相图提供平衡态框架,溶质分配决定偏析程度,界面稳定性判据给出平界面失稳条件,成分过冷区宽度决定最终凝固模式。四者构成一条从成分到组织的因果链。在增材制造中,由于冷却速率极高,还需考虑溶质截留、亚稳相形成和快速凝固带来的扩展固溶度。实际工作中,可先通过热力学计算获得 k₀、mL 等参数,再结合熔池热历史估算 GL 和 V,最后用 GL/V 判据预测凝固模式,并通过金相观察验证。若预测与实测不符,应检查是否出现溶质截留、异质形核或对流扰动等非平衡效应。