3. 对流与辐射换热
3.1 对流换热基础
对流换热是SiP封装中热量从芯片表面传递到周围流体（空气或冷却液）的主要途径。根据流体驱动方式，可分为自然对流和强制对流两类。
3.1.1 自然对流
自然对流由温度差引起的密度差驱动，无需外部动力源。在SiP中，自然对流常见于低功耗便携设备或静止环境下的散热。
- 驱动机制：热流体上升，冷流体下沉，形成循环。
- 换热系数：通常较低，范围在 5–25 W/(m²·K)。
- 影响因素：芯片朝向、封装外形、环境温度、流体物性。
- 适用场景：功耗 < 2W 的SiP模块、无风扇IoT设备。
3.1.2 强制对流
强制对流通过风扇、泵等外部设备驱动流体流动，显著提升换热效率。在SiP中，强制对流是高性能计算、射频功率放大器等场景的主流散热方式。
- 驱动机制：外部动力源（风扇、泵）产生流速。
- 换热系数：较高，范围在 25–250 W/(m²·K) 甚至更高。
- 影响因素：流速、流道设计、散热器几何、流体类型。
- 适用场景：功耗 > 5W 的SiP模块、服务器、基站。
设计提示：在SiP热仿真中，自然对流通常采用经验关联式（如 Churchill-Chu 公式）计算换热系数；强制对流则需结合 CFD 仿真或风洞实验数据。
3.1.3 自然对流与强制对流对比
| 特性 | 自然对流 | 强制对流 |
|---|---|---|
| 驱动力 | 浮力（密度差） | 外部动力（风扇/泵） |
| 换热系数范围 | 5–25 W/(m²·K) | 25–250 W/(m²·K) |
| 功耗依赖 | 低功耗（<2W） | 中高功耗（>5W） |
| 可靠性 | 高（无运动部件） | 中（风扇寿命、噪音） |
| 仿真复杂度 | 低（经验公式） | 高（CFD求解） |
| SiP典型应用 | 可穿戴、传感器 | CPU/GPU SiP、射频前端 |
3.2 辐射换热原理
辐射换热是物体通过电磁波传递热量的方式，在SiP封装中，当芯片温度较高或对流受限时，辐射换热不可忽略。
- 基本定律：斯特藩-玻尔兹曼定律 \( Q = \varepsilon \sigma A (T_1^4 - T_2^4) \)，其中 \(\varepsilon\) 为发射率，\(\sigma = 5.67 \times 10^{-8} \, \text{W/(m}^2\cdot\text{K}^4)\)。
- 发射率：黑体为1，实际表面在0.1–0.95之间。SiP中常用封装材料（环氧树脂、陶瓷、金属盖板）的发射率差异较大。
- 视角因子：描述两个表面之间辐射能量的几何比例，在SiP多芯片布局中需精确计算。
- 与对流耦合：在自然对流为主的场景中，辐射换热可占总换热的 20%–40%，必须联合求解。
常见误区：许多工程师在SiP热仿真中忽略辐射换热，认为其贡献小。但在高温（>100°C）或真空/低气压环境下，辐射换热占比显著上升，忽略会导致结温预测偏低 5–15°C。
3.3 对流与辐射在SiP中的应用
3.3.1 芯片布局对对流的影响
芯片在基板上的相对位置直接影响流道形态和局部流速。例如，将高功耗芯片置于气流上游，可避免下游热空气预热效应；芯片间距过小会形成“热岛”，抑制自然对流。
3.3.2 辐射在多层SiP中的角色
在3D堆叠SiP中，芯片间间隙极窄（<100μm），对流几乎被抑制，辐射成为层间传热的主要方式之一。高发射率界面材料（如黑色涂层）可增强辐射耦合。
3.3.3 协同优化策略
- 布局优化：高功耗芯片分散布置，避免热集中；在气流方向上游放置热敏感芯片。
- 表面处理：对封装盖板或散热器表面进行黑化处理（发射率 >0.9），增强辐射散热。
- 散热器设计：强制对流场景下采用高翅片密度散热器；自然对流场景下采用大间距、垂直取向翅片。
- 仿真流程：先进行CFD对流仿真，再耦合辐射求解器（如离散坐标法或表面辐射模型）。
案例参考：某5G射频SiP模块，功耗12W，初始布局导致热点温度125°C。通过将高功耗PA芯片移至气流上游、盖板喷涂高发射率涂层，并优化翅片间距，最终热点温度降至98°C，降幅达21.6%。
3.4 对流与辐射换热路径示意
下图展示了SiP封装中对流与辐射换热的典型路径，包括芯片到封装表面、封装表面到环境、以及芯片间的辐射耦合。
3.5 对流与辐射换热系数经验值参考
| 换热类型 | 典型换热系数 (W/(m²·K)) | SiP典型场景 |
|---|---|---|
| 自然对流（空气） | 5–15 | 无风扇IoT模块、传感器SiP |
| 自然对流（液体） | 50–500 | 浸没式冷却SiP（特殊场景） |
| 强制对流（空气，低速） | 20–60 | 消费电子SiP（手机、平板） |
| 强制对流（空气，高速） | 60–150 | 服务器/基站SiP模块 |
| 强制对流（液体，微通道） | 500–5000 | 高性能计算SiP、激光器SiP |
| 辐射换热（黑体表面，ΔT=50°C） | 约 6–8 | 高温SiP（>100°C）辅助散热 |
仿真建议：在SiP热仿真中，建议同时开启对流与辐射模型。对于自然对流+辐射场景，使用表面辐射模型（S2S）或离散坐标（DO）模型；对于强制对流主导场景，辐射可简化为等效换热系数。
3.6 对流与辐射耦合仿真流程
- 几何建模：导入SiP封装3D模型（芯片、基板、焊球、盖板、散热器）。
- 材料属性赋值：导热系数、发射率、比热容、密度。
- 边界条件设置：环境温度、流速（强制对流）、重力方向（自然对流）。
- 网格划分：对流体域和固体域分别划分网格，边界层加密。
- 求解器选择：耦合求解Navier-Stokes方程（对流）和辐射传输方程（辐射）。
- 收敛监测：监控残差、芯片结温、热流平衡。
- 后处理与优化：提取温度分布、热流密度、流线图，迭代调整布局或散热方案。
关键参数：在SiP热仿真中，芯片表面发射率通常设为 0.8–0.9（黑化处理），封装盖板发射率设为 0.85–0.95，基板发射率设为 0.3–0.6（取决于阻焊层颜色）。