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MicroLED芯片刻蚀工艺与侧壁保护

共计 30 章节
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01
课程导入
MicroLED显示技术概述 · 刻蚀工艺在芯片制造中的核心地位 · 侧壁保护的必要性
课程导入MicroLED
02
MicroLED芯片基础
MicroLED结构 · 发光原理 · 与LCD/OLED对比
MicroLED芯片基础
03
刻蚀工艺基础
刻蚀定义 · 分类（干法/湿法） · 各向异性与各向同性
刻蚀工艺基础刻蚀定义
04
干法刻蚀原理
等离子体基础 · ICP-RIE与CCP-RIE原理 · 物理溅射与化学反应的协同作用
干法刻蚀原理等离子体基础
05
刻蚀气体化学
常用刻蚀气体（Cl2 · BCl3 · Ar
刻蚀气体化学Cl2
06
MicroLED刻蚀工艺特点
GaN/InGaN材料体系 · LED外延结构 · p-GaN/n-GaN刻蚀差异
MicroLED刻蚀工艺特点
07
刻蚀掩膜技术
光刻胶 · SiO2 · SiNx
刻蚀掩膜技术光刻胶
08
侧壁损伤问题
刻蚀引入的晶格损伤 · 非辐射复合中心 · 漏电流增加
侧壁损伤问题刻蚀引入的晶格损…
09
侧壁保护原理
侧壁钝化机制 · 聚合物沉积 · 氧化层形成
侧壁保护原理侧壁钝化机制
10
侧壁保护工艺方法
原位钝化 · 后处理钝化 · 原子层沉积（ALD）保护层
侧壁保护工艺方法原位钝化
11
ALD侧壁保护技术
ALD原理 · Al2O3/SiO2等材料选择 · 沉积厚度控制
ALD侧壁保护技术
12
刻蚀参数优化
功率 · 压力 · 气体流量
刻蚀参数优化功率
13
侧壁轮廓控制
垂直度 · 倾斜角 · 底部倒角
侧壁轮廓控制垂直度
14
刻蚀损伤评估方法
光致发光（PL） · 阴极发光（CL） · 电学测试（I-V
刻蚀损伤评估方法PL
15
侧壁保护效果评价
量子效率测试 · 漏电流测量 · 可靠性老化实验
侧壁保护效果评价量子效率测试
16
MicroLED刻蚀工艺案例
典型RGB MicroLED芯片刻蚀… · 不同波长（红绿蓝）刻蚀差异 · 工艺参数实例
MicroLED刻蚀工艺案例
17
侧壁保护案例实战
针对蓝光MicroLED的侧壁钝化工… · ALD保护层厚度优化 · 性能提升数据
侧壁保护案例实战MicroLED
18
常见问题与解决
刻蚀速率不均匀 · 侧壁粗糙度过大 · 掩膜选择比不足
常见问题解决
19
工艺集成与兼容性
刻蚀与光刻 · 薄膜沉积 · 金属化等工序的衔接
工艺集成兼容性
20
先进刻蚀技术
原子层刻蚀（ALE） · 脉冲等离子体刻蚀 · 低温刻蚀
先进刻蚀技术ALE
21
侧壁保护新材料
氮化铝 · 氧化铪 · 有机钝化层
侧壁保护新材料氮化铝
22
模拟与建模
刻蚀工艺仿真软件 · 等离子体模型 · 侧壁轮廓预测
模拟建模
23
量产与良率控制
刻蚀工艺的稳定性监控 · SPC · 设备维护
量产良率控制
24
行业标准与测试规范
MicroLED刻蚀相关标准 · 可靠性测试条件 · 性能评价指标
行业标准测试规范
25
案例复盘
某公司MicroLED刻蚀工艺开发全… · 遇到的挑战 · 解决方案
案例复盘MicroLED
26
综合实战任务
设计一套MicroLED刻蚀与侧壁保… · 包括参数选择 · 保护层设计
综合实战任务MicroLED
27
前沿趋势
巨量转移对刻蚀的要求 · 微缩化趋势下的刻蚀挑战 · 新型显示架构对侧壁保护的需求
前沿趋势巨量转移对刻蚀的…
28
课程总结
核心知识点回顾 · 常见误区提醒 · 学习路径建议
课程总结核心知识点回顾
29
综合测试
涵盖刻蚀原理 · 工艺参数 · 侧壁保护方法
综合测试涵盖刻蚀原理
30
项目答辩与反馈
学员展示自己的工艺方案 · 讲师点评 · 互动答疑
项目答辩反馈