VIP20
本课程属于：039-半导体良率工程师 半导体工艺与制造设备 · 共 20 门相关课程，组合学习更完整。
查看所属VIP全部课程 →
← 返回所属目录 咨询 / 购买

工艺窗口优化：CVD薄膜均匀性与良率模型验证实践

共计 30 章节
点击此处阅读海量试读课程：100+行业、1000+细分领域
01
CVD工艺基础
化学气相沉积原理 · CVD反应类型 · CVD在半导体制造中的角色
CVD工艺基础
02
薄膜均匀性定义
片内均匀性 · 片间均匀性 · 批次均匀性
薄膜均匀性定义片内均匀性
03
良率概念与分类
晶圆良率 · 芯片良率 · 参数良率
良率概念分类
04
工艺窗口概念
工艺窗口定义 · 窗口边界 · CVD工艺窗口的关键参数
工艺窗口概念工艺窗口定义
05
CVD关键工艺参数
温度 · 压力 · 气体流量
CVD关键工艺参数
06
均匀性影响因素分析
气流场分布 · 温度场分布 · 反应物耗尽效应
均匀性影响因素分…气流场分布
07
良率影响因素分析
颗粒污染 · 薄膜应力 · 厚度偏差
良率影响因素分析颗粒污染
08
实验设计基础
DOE原理 · 全因子设计 · 部分因子设计
实验设计基础DOE
09
响应曲面方法
RSM建模 · 二阶模型 · 最优工艺点搜索
响应曲面方法RSM
10
数据采集与预处理
传感器数据清洗 · 异常值检测 · 数据归一化
数据采集预处理
11
均匀性模型构建
多元线性回归 · 多项式回归 · 模型拟合优度评估
均匀性模型构建多元线性回归
12
良率模型构建
逻辑回归 · 概率模型 · 良率与参数关联分析
良率模型构建逻辑回归
13
模型验证方法
交叉验证 · 留一法验证 · 测试集验证
模型验证方法交叉验证
14
残差分析
残差图 · 正态性检验 · 异方差性检验
残差分析残差图
15
方差分析
ANOVA原理 · 主效应分析 · 交互效应分析
方差分析ANOVA
16
工艺窗口边界确定
规格限 · 工艺能力指数Cpk · 窗口裕度计算
工艺窗口边界确定规格限
17
多目标优化
均匀性与良率的权衡 · 帕累托前沿 · 加权评分法
多目标优化均匀性
18
蒙特卡洛模拟
随机参数生成 · 工艺波动模拟 · 良率预测
蒙特卡洛模拟随机参数生成
19
敏感性分析
参数灵敏度计算 · Tornado图 · 关键参数识别
敏感性分析参数灵敏度计算
20
统计过程控制
SPC控制图 · 均值极差图 · 过程能力分析
统计过程控制SPC
21
机器学习在CVD中的应用
神经网络 · 随机森林 · 特征重要性
CVD机器学习
22
Python数据分析实战
Pandas数据处理 · NumPy数值计算 · Matplotlib可视化
Python数据分析实战
23
Python建模实战
Scikit-learn回归与分类模… · 模型评估指标
Python建模实战
24
Python优化实战
Scipy优化算法 · 多目标优化库使用
Python优化实战
25
案例1
氧化硅薄膜均匀性优化——温度与压力窗…
案例1氧化硅薄膜均匀性…
26
案例2
氮化硅薄膜应力与良率关联模型验证
案例2氮化硅薄膜应力
27
案例3
多晶硅沉积工艺窗口的多目标优化
案例3多晶硅沉积工艺窗…
28
案例4
高k介质薄膜均匀性提升的DOE实践
案例4DOE
29
案例5
金属CVD薄膜良率预测与SPC监控
案例5CVD
30
课程总结与展望
先进CVD工艺趋势 · AI驱动的工艺优化未来
课程总结CVD