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光刻工艺与光刻机原理

共计 30 章节
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01
光刻技术概论
光刻在半导体制造中的核心地位 · 光刻技术发展简史 · 光刻工艺的基本流程概述
光刻技术概论光刻
02
光刻机分类与架构
接触式/接近式光刻机 · 扫描投影光刻机 · 步进重复光刻机
光刻机分类架构
03
光刻胶基础
光刻胶的组成与分类（正胶/负胶） · 光刻胶的关键性能参数（分辨率 · 灵敏度
光刻胶基础光刻胶的组成
04
光刻胶涂布工艺
旋转涂胶原理 · 涂胶厚度控制 · 边缘珠去除
光刻胶涂布工艺旋转涂胶原理
05
曝光光源与光学系统
汞灯 · 准分子激光（KrF · ArF）
曝光光源光学系统
06
掩模版技术
掩模版结构与材料 · 亮场/暗场掩模 · 光学邻近效应修正（OPC）掩模
掩模版技术掩模版结构
07
对准与套刻精度
对准标记设计 · 对准传感器原理（光栅/图像） · 套刻误差来源与测量
对准套刻精度
08
曝光剂量与聚焦控制
曝光剂量对线宽的影响 · 最佳聚焦与焦深 · 曝光窗口（Process Windo…
曝光剂量聚焦控制
09
曝光后烘烤（PEB）
化学放大胶的PEB原理 · PEB温度均匀性控制 · 对线宽均匀性的影响
PEB曝光后烘烤
10
显影工艺
显影液化学原理 · 显影方式（浸没式/喷雾式） · 显影终点检测
显影工艺显影液化学原理
11
光刻胶去胶与清洗
干法去胶（氧等离子体） · 湿法去胶（溶剂/酸） · 清洗工艺对良率的影响
光刻胶去胶清洗
12
光刻工艺缺陷分析
颗粒缺陷 · 划痕 · 气泡
光刻工艺缺陷分析颗粒缺陷
13
光刻分辨率增强技术
光学邻近效应修正（OPC） · 离轴照明（OAI） · 相移掩模（PSM）详解
光刻分辨率增强技…OPC
14
浸没式光刻技术
浸没式光刻原理 · 高折射率液体 · 浸没式光刻的挑战（气泡
浸没式光刻技术浸没式光刻原理
15
多重图形化技术
LELE（光刻-刻蚀-光刻-刻蚀） · SADP（自对准双重图形化） · SAQP（自对准四重图形化）
多重图形化技术LELE
16
极紫外（EUV）光刻技术
EUV光源原理（激光产生等离子体） · 反射式光学系统 · EUV掩模与真空环境
EUV极紫外
17
电子束光刻技术
电子束直写原理 · 电子束光刻胶 · 电子束邻近效应
电子束光刻技术电子束直写原理
18
纳米压印光刻技术
热压印与紫外压印原理 · 模板制备 · 压印工艺步骤
纳米压印光刻技术热压印
19
光刻工艺的计量与检测
线宽测量（CD-SEM） · 套刻精度测量（Box-in-Box） · 膜厚测量（椭偏仪）
光刻工艺的计量检测
20
光刻工艺的统计过程控制
Cp/Cpk指标 · 光刻工艺的稳定性监控 · 反馈与前馈控制
光刻工艺的统计过…Cp/Cpk
21
光刻胶的化学放大机制
光酸产生剂（PAG） · 酸扩散 · 去保护反应
光刻胶的化学放大…PAG
22
抗反射涂层（ARC）技术
底部抗反射涂层（BARC） · 顶部抗反射涂层（TARC） · 驻波效应抑制
ARC抗反射涂层
23
光刻工艺中的热管理
热板温度均匀性 · 冷板与温湿度控制 · 热效应对线宽的影响
光刻工艺热管理
24
光刻机运动台与工件台技术
气浮导轨 · 激光干涉仪定位 · 高速高精度步进与扫描控制
光刻机运动台工件台技术
25
光刻机对准系统详解
双工件台对准流程 · 离轴对准与同轴对准 · 对准信号处理
光刻机对准系统详…双工件台对准流程
26
光刻工艺的自动化与集成
光刻轨道系统（Track） · 光刻机与轨道联机 · 自动化物料搬运
光刻工艺的自动化集成
27
先进光刻工艺的挑战
3D NAND光刻 · 逻辑芯片的金属层光刻 · 异构集成对光刻的要求
先进光刻工艺的挑…NAND
28
光刻工艺的仿真与建模
光刻仿真软件（PROLITH · Dr.LiTHO） · 光刻胶显影模型
光刻工艺的仿真建模
29
光刻工艺的良率提升策略
工艺窗口优化 · 缺陷减少 · 设备匹配与基线管理
光刻工艺的良率提…工艺窗口优化
30
未来光刻技术展望
高数值孔径EUV · 定向自组装（DSA） · 无掩模光刻技术趋势
未来光刻技术展望EUV