VIP10

本课程属于：069-镀膜工艺参数控制 光学光电与激光工程 · 共 10 门相关课程，组合学习更完整。

查看所属VIP全部课程 →

← 返回所属目录咨询 / 购买

真空镀膜沉积工艺参数控制与膜层测试

📚 共计 30 章节

点击此处阅读海量试读课程：100+行业、1000+细分领域

镀膜工艺概述

真空镀膜技术发展简史 · 光学/电子/装饰领域应用 · 课程框架与学习路径

真空基础与真空系统

压强·分子平均自由程 · 真空区域划分 · 泵组/阀门/管路系统组成

核心概念系统

真空获得设备详解

机械泵·罗茨泵·扩散泵·分子泵 · 选型依据 · 抽速与极限真空度

真空测量与检漏

热偶规·电离规·薄膜规 · 氦质谱检漏 · 常见漏点排查

基片清洗与前处理

表面污染类型 · 化学/超声波/离子束/等离子体清洗

前处理清洗

镀膜材料基础

金属·氧化物·氟化物特性 · 纯度与颗粒度 · 材料预处理

蒸发镀膜原理

热蒸发基本原理 · 蒸发速率与温度 · 电阻式/电子束式蒸发源

蒸发镀膜工艺参数控制

蒸发功率·沉积速率·基片温度·真空度对膜层质量的影响

溅射镀膜原理

溅射现象与机理 · 直流/射频/磁控溅射原理与特点

磁控溅射工艺参数控制

靶材功率·工作气压·靶基距·气体流量对沉积速率与均匀性的影响

磁控溅射参数

离子镀与离子辅助

离子镀技术原理 · 霍尔源/考夫曼源 · 离子能量与束流密度控制

离子镀辅助

反应镀膜工艺

反应溅射与反应蒸发 · O₂/N₂分压控制 · 迟滞效应与靶中毒

反应镀膜分压

膜厚监控技术

石英晶体振荡法(QCM) · 光学监控(极值法/宽光谱) · 膜厚均匀性控制

基片温度控制

温度对膜层结构的影响(Zone模型) · 辐射/接触加热 · 测温与控温策略

气体流量与分压控制

质量流量控制器(MFC) · 气体比例控制 · 分压测量与闭环控制

镀膜工艺自动化与PLC控制

PLC在镀膜机中的应用 · 工艺配方管理 · 数据采集与监控系统

膜层应力与控制

热应力·本征应力来源 · 应力测量方法 · 应力调控策略

膜层附着力与改善

划痕法·剥离法测试 · 缓冲层/离子轰击等改善手段

附着力改善

光学膜系设计与参数匹配

单层增透膜·多层高反膜设计 · 工艺参数与光学性能关联

均匀性与重复性控制

源-基片几何·气体分布影响 · 工艺窗口优化 · 统计过程控制(SPC)

镀膜缺陷分析与控制

针孔·节瘤·膜层脱落 · 缺陷溯源与工艺改进

工艺参数正交实验设计

DOE基础 · 正交表设计 · 因子与水平 · 极差分析与方差分析

响应曲面法优化工艺

RSM原理 · 中心复合设计(CCD) · 回归模型建立与优化

镀膜工艺仿真与虚拟实验

蒙特卡洛模拟在溅射中的应用 · 工艺参数与膜厚分布仿真预测

典型镀膜工艺案例一：金属膜

Al·Ag·Au镀制工艺参数详解与常见问题

金属膜案例

典型镀膜工艺案例二：氧化物膜

SiO₂·TiO₂·Al₂O₃反应溅射工艺参数详解

氧化物反应溅射

典型镀膜工艺案例三：氮化物膜

TiN·CrN·Si₃N₄镀制工艺参数详解

氮化物案例

镀膜设备维护与故障排除

日常维护要点 · 真空度异常/电弧/膜厚不准等故障排查流程

镀膜工艺安全与规范

化学品·电气·辐射安全 · 工艺操作规程与记录规范

综合实战项目

需求分析到工艺交付全流程 · 参数调试报告撰写 · 课程总结与进阶方向