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硅基光电子集成：硅光计算芯片版图验证与适配入门

共计 30 章节
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01
硅光电子集成概述
发展历史 · 技术优势与典型应用场景
硅光电子集成概述发展历史
02
硅光计算芯片基础
光计算原理 · 波导 · 调制器与探测器简介
硅光计算芯片基础光计算原理
03
硅光工艺平台与PDK
主流代工厂工艺 · 器件库与设计规则
PDK硅光工艺平台
04
版图设计工具入门
KLayout安装 · 界面与基本操作
版图设计工具入门KLayout
05
版图基本元素绘制
直波导 · 弯曲波导 · 定向耦合器
版图基本元素绘制直波导
06
设计规则文件解读
最小线宽 · 间距 · 包层与接触层定义
设计规则文件解读最小线宽
07
设计规则检查（DRC）原理
规则类型 · 检查流程与常见错误
DRC设计规则检查
08
DRC脚本编写入门
KLayout规则文件（.krc）语…
DRC脚本编写入门
09
版图与原理图一致性检查（LVS）基础
光路逻辑等效概念
LVS版图
10
LVS在硅光中的特殊处理
光波导连接关系 · 分束比验证
LVS硅光
11
版图寄生参数提取
光学寄生效应（串扰 · 损耗）提取方法
版图寄生参数提取光学寄生效应
12
基于提取参数的版图后仿真
性能评估与迭代优化
基于提取参数的版…性能评估
13
硅光芯片与电子电路适配
驱动电路 · 模数转换接口版图集成
硅光芯片电子电路适配
14
热光效应与版图适配
加热器布局 · 热调谐区域设计
热光效应版图适配
15
版图验证常见错误解析
短路 · 断路 · 违例及修复策略
版图验证常见错误…短路
16
自动化版图生成
Python脚本操作KLayout批…
自动化版图生成Python
17
版图数据格式详解
GDSII · OASIS · LEF/DEF转换与兼容
版图数据格式详解GDSII
18
多项目晶圆（MPW）版图整合
拼版规则 · 标记与填充
MPW多项目晶圆
19
版图与制造工艺适配
刻蚀深度 · 侧壁角度对性能的影响
版图制造工艺适配
20
硅光芯片封装版图设计
光纤耦合器 · 倒装焊焊盘布局
硅光芯片封装版图…光纤耦合器
21
版图验证加速方法
并行DRC · 分布式LVS与脚本优化
版图验证加速方法DRC
22
光计算芯片版图层次设计
光路逻辑层 · 控制层与供电层
光计算芯片版图层…光路逻辑层
23
宽带与波长级版图适配
色散补偿 · 多波长路由设计
宽带波长级版图适配
24
可靠性考虑
工艺角变化 · 温度漂移下的版图鲁棒性验证
可靠性考虑工艺角变化
25
版图内置测试结构
监控波导 · 光功率监测点 · 电测试Pad
版图内置测试结构监控波导
26
版图验证工具链集成
CI/CD流程中自动DRC/LVS的…
版图验证工具链集…CI/CD
27
硅光版图常见工艺缺陷
深浅刻蚀过渡 · 侧壁粗糙度影响
硅光版图常见工艺…深浅刻蚀过渡
28
机器学习辅助版图适配
预测波导损耗 · 自动规则调整
机器学习辅助版图…预测波导损耗
29
案例研究
马赫-曾德尔干涉仪版图验证全流程
案例研究马赫
30
综合练习
完整硅光计算核（加法器/乘法器）版图…
综合练习完整硅光计算核