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MOCVD衬底预处理与薄膜均匀性调试工程实践

共计 30 章节

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MOCVD技术概论

MOCVD基本原理 · 设备构成 · 工艺参数概述及在化合物半导体中的应用

MOCVD技术概论

衬底材料选择

蓝宝石 · 碳化硅 · 硅

衬底材料选择蓝宝石

衬底清洗基础

有机沾污 · 颗粒 · 金属离子污染的来源与清洗原理

衬底清洗基础有机沾污

湿法清洗工艺

RCA标准清洗法 · 酸洗 · 碱洗

湿法清洗工艺RCA

干法清洗工艺

等离子体清洗 · 紫外臭氧清洗 · 氢自由基清洗的原理与参数

干法清洗工艺等离子体清洗

原位热处理预处理

高温氢气烘烤 · 氮气退火 · 氨气预处理对衬底表面的影响

原位热处理预处理高温氢气烘烤

衬底表面氮化处理

氮化温度 · 时间 · 压力对成核层质量的影响

衬底表面氮化处理氮化温度

缓冲层/成核层生长

低温GaN/ AlN成核层的生长条件…

缓冲层成核层生长

表面形貌表征

原子力显微镜(AFM)在衬底预处理评…

表面形貌表征AFM

表面洁净度检测

X射线光电子能谱(XPS) · 二次离子质谱(SIMS)在表面分析中…

表面洁净度检测XPS

薄膜均匀性基础

均匀性定义 · 面内均匀性 · 批次均匀性

薄膜均匀性基础均匀性定义

MOCVD反应室气流动力学

喷淋头设计 · 载气流量 · 反应室压力对均匀性的影响

MOCVD反应室气流动力学

温度均匀性控制

加热盘设计 · 热电偶校准 · 温度梯度对薄膜厚度均匀性的影响

温度均匀性控制加热盘设计

衬底托盘设计

多片托盘 · 单片托盘 · 行星式托盘对均匀性的影响

衬底托盘设计多片托盘

前驱体输运系统

鼓泡器温度 · 载气流量 · 管道压力对前驱体摩尔流量的影响

前驱体输运系统鼓泡器温度

V/III比对薄膜组分 · 表面形貌 · 均匀性的影响

生长速率均匀性调试

通过调整TMGa/TMIn流量分布改…

生长速率均匀性调…TMGa/TMIn

组分均匀性调试

InGaN · AlGaN组分均匀性的调控策略

组分均匀性调试InGaN

掺杂均匀性调试

Si掺杂 · Mg掺杂均匀性的优化方法

掺杂均匀性调试Si

衬底旋转速度 · 旋转方向对薄膜均匀性的影响

旋转效应衬底旋转速度

边缘气流扰动 · 热辐射损失对边缘均匀性的影响及补偿方…

边缘效应边缘气流扰动

原位监测技术

反射率监测 · 曲率监测在均匀性调试中的应用

原位监测技术反射率监测

均匀性表征方法

椭圆偏振光谱仪 · X射线衍射 · 光致发光Mapping

均匀性表征方法椭圆偏振光谱仪

统计过程控制

均匀性数据的统计分析 · 控制图 · Cp/Cpk评估

统计过程控制均匀性数据的统计…

常见均匀性缺陷分析

中心厚边缘薄 · 边缘厚中心薄 · 月牙形不均匀的成因与对策

常见均匀性缺陷分…心厚边缘薄

工艺参数DOE设计

全因子实验 · 响应曲面法在均匀性优化中的应用

DOE工艺参数

反应室维护与均匀性

反应室壁沉积物 · 喷淋头堵塞对均匀性的影响及清洁周期

反应室维护均匀性

MOCVD与MBE均匀性对比

两种技术路线在均匀性控制上的差异

量产中的均匀性控制

批量生产中的均匀性监控 · 反馈控制与工艺转移

量产均匀性控制

人工智能在MOCVD均匀性预测与优化…

未来趋势MOCVD